杭州盾源聚芯半导体科技有限公司祝军获国家专利权
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龙图腾网获悉杭州盾源聚芯半导体科技有限公司申请的专利一种加压刻蚀设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117954356B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410193245.4，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权一种加压刻蚀设备是由祝军;祝建敏;林霜设计研发完成，并于2024-02-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种加压刻蚀设备在说明书摘要公布了：本发明涉及硅产品加工装置技术领域，具体涉及一种加压刻蚀设备，包括基台，其具有顶部敞口的刻蚀槽；盖板，用于遮盖所述刻蚀槽；所述盖板内侧设有开口槽，所述盖板设有出液口；出液组件位于开口槽内，所述喷管能够在喷孔喷液时所产生的反冲力作用下绕出液口的轴线进行周向转动；环形的压紧件，用于抵压产品上表面，其设于盖板上并环绕在开口槽的外周，所述压紧件能够相对于盖板轴向活动。方案中，喷管上的喷孔喷射方向是朝向开口槽的周壁的，即喷孔是向侧方喷射刻蚀酸液（以下简称酸液），而不是直接喷向产品表面的，如此便可避免直接向产品表面喷液造成刻蚀不均的问题；喷管可以对酸液进行搅拌，使得酸液混合更为均匀，以提高刻蚀效果。
本发明授权一种加压刻蚀设备在权利要求书中公布了：1.一种加压刻蚀设备，其特征在于，包括： 基台，其具有顶部敞口的刻蚀槽； 盖板，用于遮盖所述刻蚀槽；所述盖板内侧设有开口槽，所述盖板设有出液口； 出液组件，位于开口槽内，包括与出液口转动对接的端头和若干沿端头周向依次布置在端头周侧的喷管，所述喷管均与出液口连通，且所述喷管的侧壁上开设有若干喷孔，其中所述喷孔的喷射方向朝向开口槽的周壁；所述喷管能够在喷孔喷液时所产生的反冲力作用下绕出液口的轴线进行周向转动； 环形的压紧件，用于抵压产品上表面，其设于盖板上并环绕在开口槽的外周，所述压紧件能够相对于盖板轴向活动。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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