杭州盾源聚芯半导体科技有限公司马一鸣获国家专利权
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龙图腾网获悉杭州盾源聚芯半导体科技有限公司申请的专利一种用于C型多孔结构硅产品的刻蚀治具及刻蚀机构获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116779476B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310616910.1,技术领域涉及:H01L21/67;该发明授权一种用于C型多孔结构硅产品的刻蚀治具及刻蚀机构是由马一鸣;祝建敏;周波;林霜;密思设计研发完成,并于2023-05-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于C型多孔结构硅产品的刻蚀治具及刻蚀机构在说明书摘要公布了:本发明涉及硅产品治具技术领域,具体涉及一种用于C型多孔结构硅产品的刻蚀治具,包括相对设置的两转盘,两转盘之间设有四根固定杆,其中四根固定杆两两相对设置,其中一组处于相对侧的两固定杆之间的连线与另一组处于相对侧的两固定杆之间的连线交叉设置;每个所述固定杆的内侧壁上均设有用于供产品卡入的卡槽,其中4个卡槽分布在同一斜面上,其中所述斜面相对于竖直面以角度α1倾斜,所述α1为30°‑60°;在刻蚀结束后,只要使治具继续保持转动,便可使得产品的外侧壁和内侧壁交替倾斜朝下,如此当外侧壁转动至倾斜朝下位置时,产品内部积存的酸液便可从外侧壁上的孔洞流出,避免产品内部酸液积存过多造成内部过度刻蚀的问题。
本发明授权一种用于C型多孔结构硅产品的刻蚀治具及刻蚀机构在权利要求书中公布了:1.一种用于C型多孔结构硅产品的刻蚀治具,其特征在于,所述产品呈圆环状结构,其包括处于相对侧的内侧壁和外侧壁,以及设于内侧壁和外侧壁之间的周壁,其中内侧壁、外侧壁和周壁三者合围形成截面呈C形的C形槽结构,所述外侧壁上沿周向均匀开设有若干孔;内侧壁和外侧壁与周壁衔接处形成圆周棱边; 所述治具包括相对设置的两转盘,两转盘之间设有四根固定杆,其中四根固定杆两两相对设置,其中一组处于相对侧的两固定杆之间的连线与另一组处于相对侧的两固定杆之间的连线交叉设置;每个所述固定杆的内侧壁上均设有用于供产品卡入的卡槽,其中4个卡槽分布在同一斜面上,其中所述斜面相对于竖直面以角度α1倾斜,所述α1为30°-60°; 在刻蚀结束后,将治具从刻蚀槽中拉出后,使治具继续保持转动,使得产品的外侧壁和内侧壁交替倾斜朝下,当外侧壁转动至倾斜朝下位置时,产品内部积存的酸液便可从外侧壁上的孔流出; 四根固定杆分别为沿竖向相对设置的两第一固定杆,以及沿横向相对设置的两第二固定杆;位于第一固定杆上的卡槽构成第一卡槽,位于第二固定杆上的卡槽构成第二卡槽; 当产品安装于四根固定杆上的卡槽内时,通过卡槽的槽壁与产品的棱边相抵靠以实现对产品的装载; 4个所述卡槽共同构成装载产品的卡槽组,当产品装载至卡槽组时,所述产品与卡槽组间隙配合,顺着斜面方向,两第一卡槽之间距离要保证产品在卡入两第一卡槽内后,产品能够在一定范围内沿自身径向进行移动;两第二卡槽之间的间距也要保证产品在卡入两第二卡槽内后,产品同样能够在一定范围内沿自身径向移动。
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