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龙图腾网获悉中国原子能科学研究院申请的专利一种水冷系统与真空夹持系统共用空间的靶站结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116847528B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310519120.1，技术领域涉及：H05H6/00；该发明授权一种水冷系统与真空夹持系统共用空间的靶站结构是由赵黎杰;宋国芳;邢建升;冀鲁豫;凌丽设计研发完成，并于2023-05-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种水冷系统与真空夹持系统共用空间的靶站结构在说明书摘要公布了：本发明公开了一种水冷系统与真空夹持系统共用空间的靶站结构，包括靶架、靶基、真空夹持机构、直线气缸、水冷管道；其特点是：所述真空夹持机构设有一对”L”型通孔，该一对”L”型通孔向下通向靶基上表面的水槽，该一对”L”型通孔和靶基上表面的水槽紧密贴合形成了分时占用且共用的密封空间，该分时占用且共用的密封空间为抽真空空间和水冷空间。本发明将真空加持头内的“L”型通道、靶基上的“船”型水槽、以及分别布设在真空加持头和靶基上的密封圈有机结合起来，形成了一个密闭的水冷通道和密闭的抽真空通道、将靶站整体高度降低将近二分之一，并且结构简化、减少成本和物料、减少错误发生率。

本发明授权一种水冷系统与真空夹持系统共用空间的靶站结构在权利要求书中公布了：1.一种水冷系统与真空夹持系统共用空间的靶站结构，该靶站结构从下至上设有：靶架（5）、靶基（1）、真空夹持机构（2）、直线气缸（3）、水冷管道（4）；所述靶基（1）用于提供束流打在靶基（1）上所需要的靶材、靶材布设在靶基的下表面；所述靶架（5）用于为靶基提供倾斜的支架、使得束流从靶架（5）两侧穿过时束流打在靶基倾斜底面的靶材上，从而生产同位素；所述真空夹持机构（2）用于吸附靶基，当水冷和抽真空结束后，该真空夹持机构（2）在直线气缸（3）的作用下吸附靶基一起转移到靶架以外的热室中； 其特征在于：所述真空夹持机构（2）设有一对”L”型通孔，该一对”L”型通孔向下通向靶基（1）上表面的水槽，该一对”L”型通孔和靶基（1）上表面的水槽紧密贴合形成了分时占用且共用的密封空间，该分时占用且共用的密封空间为抽真空空间和水冷空间，该分时占用且共用的密封空间使得靶站的整体高度下降了将近二分之一； 所述一对”L”型通孔，分别沿着该真空夹持机构（2）的两个轴对称侧面由外到内、由前到后、由上到下穿入，并贯穿到真空夹持机构（2）的下表面，使得一对”L”型通孔的水通过其下表面的通孔流向与其紧密贴合的靶基（1）的水槽。

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