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龙图腾网获悉大连理工大学申请的专利一种双圆环诱导聚焦的电射流打印方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116277928B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310109931.4，技术领域涉及：B29C64/112；该发明授权一种双圆环诱导聚焦的电射流打印方法是由梁军生;李晓建;肖剑平设计研发完成，并于2023-02-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种双圆环诱导聚焦的电射流打印方法在说明书摘要公布了：本发明属于先进制造技术领域，提出一种双圆环诱导聚焦的电射流打印方法。该方法利用双导电圆环作为诱导电极，产生静电聚焦电场，从而诱导金属微针尖端处油墨打印出分辨率为微纳米尺度的图案。首先制备并安装打印装置，然后通过类似蘸笔的方式将墨水覆盖在金属微针尖端表面。接着将双导电圆环接地，金属微针接电源，在双导电圆环与金属微针之间形成静电聚焦电场，墨水在静电聚焦作用下形成泰勒锥并进一步锐化，最后发射至接收基板上。该方法将金属微针放置在双导电圆环中，能实现在绝缘基板上进行电射流打印，同时可以将打印距离提高至毫米级，操作简便，打印分辨率高，墨水适应性强。

本发明授权一种双圆环诱导聚焦的电射流打印方法在权利要求书中公布了：1.一种双圆环诱导聚焦的电射流打印方法，其特征在于，设置双圆环作为诱导电极，产生静电聚焦电场，用于诱导金属微针（1）尖端处墨水喷射出微小液滴至接收基板（5）；具体步骤如下： 第一步，制备并安装打印装置； 腐蚀金属微针（1），使其表面具有粗糙化结构（3），从而改变其表面能，促使墨水能够浸润其表面，以提供充足的墨水量；将腐蚀后的金属微针（1）底端固定在底座（8）上，尖端位于上导电圆环（4）和下导电圆环（2）之间；脉冲电源（6）与高压放大器（7）相连，并将放大后的电压施加到金属微针（1）上；下导电圆环（2）和上导电圆环（4）接地作为接地极，与金属微针（1）之间形成静电聚焦电场； 第二步，打印微纳米液滴； 配置打印墨水，通过蘸笔的方式将墨水附着在金属微针（1）尖端处，使尖端完全浸没在墨水中；墨水在粗糙化表面结构（3）的作用下提高自身的浸润性，保持停留在金属微针（1）尖端表面；通过脉冲电源（6）和高压放大器（7）在金属微针（1）上施加脉冲电压，调节脉冲幅值、脉冲占空比和脉冲频率，使得金属微针（3）尖端处的微量墨水在静电聚焦电场作用下克服液膜表面张力和粘滞力，进一步变形、聚焦和锐化，形成微纳米液滴，发射到距离金属微针（1）尖端0.01~5mm处的绝缘基板（5）上，随后浸润在尖端粗糙化结构（3）表面的墨水进入下一次液滴发射周期。

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