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阿里巴巴达摩院(杭州)科技有限公司高然获国家专利权

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龙图腾网获悉阿里巴巴达摩院(杭州)科技有限公司申请的专利多超导材料层的制备方法及量子器件获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115458674B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211215561.4,技术领域涉及:H10N60/01;该发明授权多超导材料层的制备方法及量子器件是由高然;邓纯青设计研发完成,并于2022-09-30向国家知识产权局提交的专利申请。

多超导材料层的制备方法及量子器件在说明书摘要公布了:本发明公开了一种多超导材料层的制备方法及量子器件。其中,该方法包括:在衬底上沉积由第一目标区域范围的第一硬掩膜覆盖第一目标区域范围的第一超导材料的第一超导材料层;在沉积有第一超导材料层的衬底上沉积第二超导材料;将第二硬掩膜覆盖在第二超导材料上;对第二硬掩膜和第二超导材料进行刻蚀处理,得到由第二目标区域范围的第二硬掩膜覆盖第二目标区域范围的第二超导材料的第二超导材料层。本发明解决了难以在同一衬底上集成多种超导材料的技术问题。

本发明授权多超导材料层的制备方法及量子器件在权利要求书中公布了:1.一种多超导材料层的制备方法,其特征在于,包括: 在衬底上沉积由第一目标区域范围的第一硬掩膜覆盖所述第一目标区域范围的第一超导材料的第一超导材料层; 在沉积有所述第一超导材料层的所述衬底上沉积第二超导材料; 将第二硬掩膜覆盖在所述第二超导材料上; 对所述第二硬掩膜和所述第二超导材料进行刻蚀处理,得到由第二目标区域范围的第二硬掩膜覆盖所述第二目标区域范围的第二超导材料的第二超导材料层; 其中,在对所述第二硬掩膜和所述第二超导材料进行刻蚀处理,得到由第二目标区域范围的第二硬掩膜覆盖所述第二目标区域范围的第二超导材料的第二超导材料层之后,还包括:采用与沉积所述第一超导材料层和所述第二超导材料层相同的方法再次沉积得到第三超导材料层,并在沉积结束后,与所述第一超导材料层和所述第二超导材料层一并去除硬掩膜。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人阿里巴巴达摩院(杭州)科技有限公司,其通讯地址为:310023 浙江省杭州市余杭区五常街道文一西路969号3幢5层516室;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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