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龙图腾网获悉合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司申请的专利显示基板及其制造方法、显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115440783B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211201204.2，技术领域涉及：H10K59/12；该发明授权显示基板及其制造方法、显示装置是由刘军;周斌;苏同上;孙涛;马宇轩;王海东设计研发完成，并于2022-09-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本显示基板及其制造方法、显示装置在说明书摘要公布了：提供了一种显示基板及其制造方法、显示装置，属于显示技术领域。该方法中，首先可以在隔离区形成沿远离衬底的方向依次层叠的金属膜层和绝缘膜层。然后可以采用一张掩膜板，对绝缘膜层和部分金属膜层进行第一刻蚀处理，形成第一绝缘层、第一金属层和覆盖第一绝缘层和部分第一金属层侧壁的络合物层。再然后可以直接以络合物层为遮挡部，对第一金属层进行第二刻蚀处理，得到上宽下窄具有尖端角的阻隔结构。因在第一刻蚀处理时，仅刻蚀了厚度较小的部分金属膜层，故使得仅在第一金属层的部分侧壁上形成了络合物层，进而使得可以在不采用掩膜板的基础上，对第一金属层进行可靠的第二刻蚀处理，得到良率较好的阻隔结构，实现对外界水汽的可靠阻挡。

本发明授权显示基板及其制造方法、显示装置在权利要求书中公布了：1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括： 提供衬底，所述衬底具有隔离区； 在所述隔离区，形成位于所述衬底一侧且沿远离所述衬底的方向依次层叠的金属膜层和绝缘膜层； 沿靠近所述衬底的方向，采用一张掩膜板依次对所述绝缘膜层和所述金属膜层中的部分膜层进行下述干法刻蚀处理：采用第一刻蚀气体，对所述绝缘膜层进行干法刻蚀处理，形成第一绝缘层；采用第二刻蚀气体，对所述金属膜层中的部分膜层进行干法刻蚀处理，形成第一金属层，以及覆盖所述第一绝缘层的侧壁和属于所述第一金属层的部分膜层的侧壁的络合物层，所述金属膜层中，所述部分膜层的厚度小于除所述部分膜层外的其余膜层的厚度； 直接以所述络合物层为遮挡部，采用刻蚀溶液，对所述第一金属层进行湿法刻蚀处理，形成第二金属层，所述第二金属层靠近所述第一绝缘层的部分的宽度大于远离所述第一绝缘层的部分的宽度，且小于所述第一绝缘层的宽度； 去除所述络合物层，得到阻隔结构，所述阻隔结构包括所述第二金属层和所述第一绝缘层。

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