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龙图腾网获悉华南师范大学申请的专利一种基于激光直写一步制备双环形结构的系统及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115356896B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210868958.7，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种基于激光直写一步制备双环形结构的系统及方法是由吴立军;朱彦霖;王浩;李强;陈俪赟;魏亚壮;刘佳鑫;陈浩瀚;黄巍巍设计研发完成，并于2022-07-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于激光直写一步制备双环形结构的系统及方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于激光直写一步制备双环形结构的系统及方法，该系统包括沿光路设置的连续激光器、扩束系统、衰减片、半波片、光快门、分光装置、油浸物镜和正负性可调光刻胶样品；还包括三维高精度纳米定位平移台、透镜、CCD相机和计算机；分光装置将入射进来的连续波激光束经油浸物镜聚焦到正负性可调光刻胶样品表面，入射到样品表面的激光一部分反射到分光装置上进而照射到第三透镜上；油浸物镜将激光束聚焦在样品上，一步制备双环形结构。本发明能够通过在较低成本的同时通过单次加工一步得到双环形结构，而不是通过两次或更多次的繁琐步骤获得；还可以通过改变功率密度以及直写时间来灵活地改变所需双环形结构的内外径。

本发明授权一种基于激光直写一步制备双环形结构的系统及方法在权利要求书中公布了：1.一种基于激光直写一步制备双环形结构的系统，其特征在于，包括沿光路设置的连续激光器、扩束系统、衰减片、半波片、光快门、分光装置、油浸物镜和正负性可调光刻胶样品；还包括三维高精度纳米定位平移台、第三透镜、CCD相机和计算机； 所述正负性可调光刻胶样品安装在三维高精度纳米定位平移台上；所述正负性可调光刻胶样品包括基底和涂覆在基底上的S1813正性光刻胶；所述S1813正性光刻胶包括甲酚酚醛树脂、二氮萘醌光敏化合物和溶剂； 所述连续激光器用于发出连续波激光束； 所述扩束系统用于对连续波激光束进行扩束； 所述衰减片用于控制扩束后的连续波激光束的能量； 所述半波片用于控制连续波激光束的偏振方向； 所述光快门用于控制连续波激光束的通光量； 所述分光装置用于将入射进来的连续波激光束经油浸物镜聚焦到正负性可调光刻胶样品表面，入射到正负性可调光刻胶样品表面的激光一部分反射到分光装置上进而照射到第三透镜上； 所述油浸物镜用于将激光束聚焦在正负性可调光刻胶样品上，一步制备双环形结构，然后采用显影液进行显影； 所述第三透镜用于将激光束聚焦在CCD相机上； 所述CCD相机用于实时监测加工过程，观察光束的曝光情况； 所述计算机用于控制三维高精度纳米定位平移台和CCD相机； 一步制备双环形结构原理如下： 选取的位于光刻胶吸收区边缘的激光波长和功率使得光斑得不同区域有不同的强度，这些强度分别使得对应区域不发生反应、发生化学转化以及发生烧蚀，基于此便可产生所示的双环形结构；具体来说，应用的激光束能够同时在聚合物薄膜中产生烧蚀、负性、正性和未曝光的特征；此时，在紧聚焦的光束的中心部分，固化的聚合物被烧蚀掉；在紧聚焦光束的外部部分，光刻胶正性转换为负性，导致聚合物固化；在聚焦光束的极端外部，发生正常的聚合反应，在后续显影过程中被除去；而在非聚焦部分，聚合物薄膜不受影响。

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