北京北方华创微电子装备有限公司方洋获国家专利权
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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利半导体工艺设备和压力控制方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114975190B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210747418.3，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权半导体工艺设备和压力控制方法是由方洋;闫士泉;王立卡;石磊设计研发完成，并于2022-06-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体工艺设备和压力控制方法在说明书摘要公布了：本申请公开一种半导体工艺设备和压力控制方法，属于半导体工艺技术领域。所公开的半导体工艺设备包括工艺腔室、气液分离器、控压阀门和辅助控压装置，工艺腔室的排气口通过第一排气管与气液分离器的进气口相连通，气液分离器的出气口通过第二排气管与控压阀门相连通，控压阀门通过压力采集管与气液分离器的压力采集口相连通，控压阀门用于初步调节排气口处的压力；辅助控压装置设置于第一排气管，辅助控压装置用于二次调节排气口处的压力。上述方案能够解决相关技术涉及的半导体工艺设备存在控压灵敏度及精度较低的问题。
本发明授权半导体工艺设备和压力控制方法在权利要求书中公布了：1.一种半导体工艺设备，其特征在于，包括工艺腔室（100）、气液分离器（200）、控压阀门（300）和辅助控压装置（400），所述工艺腔室（100）的排气口（110）通过第一排气管（120）与所述气液分离器（200）的进气口相连通，所述气液分离器（200）的出气口通过第二排气管（210）与所述控压阀门（300）相连通，所述控压阀门（300）通过压力采集管（310）与所述气液分离器（200）的压力采集口相连通，所述控压阀门（300）用于初步调节所述排气口（110）处的压力； 所述辅助控压装置（400）设置于所述第一排气管（120）上，所述辅助控压装置（400）用于二次调节所述排气口（110）处的压力。
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