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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利进气装置及半导体工艺设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114743903B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210575035.2，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权进气装置及半导体工艺设备是由刘胜明;郑波;荣延栋设计研发完成，并于2022-05-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本进气装置及半导体工艺设备在说明书摘要公布了：本申请公开了一种进气装置及半导体工艺设备，涉及半导体装备领域。一种进气装置包括：第一腔体、第二腔体、第一连接管和多个第二连接管；第一腔体与第二腔体层叠设置，且第一腔体朝向第二腔体的一侧开设第一进气孔和多个第一匀气孔，第一腔体的背离第二腔体的一侧开设多个第二匀气孔，且多个第二匀气孔中的部分第二匀气孔通过多个第二连接管与多个第一匀气孔一一对应连通；第一连接管穿过第二腔体，并通过第一进气孔与第一腔体连通，第二腔体的背离第一腔体的一侧开设第二进气孔，第二进气孔与第二腔体连通。一种半导体工艺设备，包括上述进气装置。本申请能够解决当前匀气结构进气时导致工艺结果的重复性和均匀性较差的问题。

本发明授权进气装置及半导体工艺设备在权利要求书中公布了：1.一种进气装置（100），用于向半导体工艺设备的工艺腔室（200）进行输气，其特征在于，所述进气装置（100）包括：第一腔体（A）、第二腔体（B）、第一连接管（130）和多个第二连接管（140）； 所述第一腔体（A）与所述第二腔体（B）层叠设置，且所述第一腔体（A）朝向所述第二腔体（B）的一侧开设有连通两者的第一进气孔（121）和多个第一匀气孔（122），所述第一腔体（A）的背离所述第二腔体（B）的一侧开设有多个第二匀气孔（1111），且多个所述第二匀气孔（1111）中的部分所述第二匀气孔（1111）通过多个所述第二连接管（140）与每个所述第一匀气孔（122）一一对应连通； 所述第一连接管（130）穿过所述第二腔体（B），并通过所述第一进气孔（121）与所述第一腔体（A）连通，所述第二腔体（B）的背离所述第一腔体（A）的一侧开设有第二进气孔（1121），所述第二进气孔（1121）与所述第二腔体（B）连通； 所述进气装置（100）包括壳体（110），所述壳体（110）包括间隔设置的第一壁（111）、第二壁（112）以及连接所述第一壁（111）和所述第二壁（112）的连接壁（113）； 所述壳体（110）内设有隔板（120），所述隔板（120）位于所述第一壁（111）与所述第二壁（112）之间，且所述隔板（120）的外缘周与所述连接壁（113）连接，所述隔板（120）将所述壳体（110）的内腔分隔为所述第一腔体（A）和所述第二腔体（B）； 所述隔板（120）可移动地设置于所述壳体（110）内，以使所述隔板（120）能够靠近或远离所述第一壁（111）； 所述第二连接管（140）为弹性伸缩管，所述第二连接管（140）的两端分别固定于所述隔板（120）和所述第一壁（111）。

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