南京理工大学吴立志获国家专利权
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龙图腾网获悉南京理工大学申请的专利基于MEMS工艺的光纤式台阶型激光飞片换能元制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114890377B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210437303.4，技术领域涉及：B81C1/00；该发明授权基于MEMS工艺的光纤式台阶型激光飞片换能元制备方法是由吴立志;袁浩方;支天金;谢天宇设计研发完成，并于2022-04-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于MEMS工艺的光纤式台阶型激光飞片换能元制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于MEMS工艺的光纤式台阶型激光飞片换能元制备方法，包括如下步骤：首先将光纤端面预处理，包括抛光、清洗、烘干；再将光纤放入设计好的模具中，对光纤端面依次经过一次光刻涂胶、曝光、显影，磁控溅射、去胶，制备出烧蚀层和隔热层；然后在一次光刻的薄膜上依次经过二次光刻、磁控溅射、去胶，制备出飞片层，获得光纤式台阶型激光飞片换能元。利用MEMS工艺制备的台阶型激光飞片换能元优势是将飞片薄膜直接镀在光纤端面，重复性好，成本低，且由于减少光纤输出端激光的发散，提高了光纤末端换能元的能量耦合效率。由于换能元台阶型，有效降低等离子体因飞片剪切造成的能量浪费，有利于降低光纤式激光飞片换能元的冲击起爆阈值。
本发明授权基于MEMS工艺的光纤式台阶型激光飞片换能元制备方法在权利要求书中公布了：1.一种基于MEMS工艺的光纤式台阶型激光飞片换能元制备方法，其特征在于，该方法包括如下步骤： 首先将光纤端面预处理：抛光、清洗、烘干； 再将光纤放入模具中，对光纤端面依次经过一次光刻：涂胶、曝光、显影， 进行磁控溅射、去胶，制备出烧蚀层和隔热层； 在一次光刻的薄膜上依次经过二次光刻、磁控溅射、去胶，制备出飞片层，获得光纤式台阶型激光飞片换能元； 短石英光纤作为镀膜基底；结构为烧蚀层-隔热层-冲击层，其中，烧蚀层为Al，隔热层为Al2O3，飞片层为Al；形状为台阶型，其中飞片层直径小于烧蚀层和隔热层直径，并与加速膛直径匹配；光纤的芯径为0.8mm与1.0mm。
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