江西兆驰半导体有限公司范绅钺获国家专利权
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龙图腾网获悉江西兆驰半导体有限公司申请的专利一种图形化衬底、图形化衬底的制备方法及LED芯片获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114823994B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210284675.8，技术领域涉及：H10H20/01；该发明授权一种图形化衬底、图形化衬底的制备方法及LED芯片是由范绅钺;田晓强;梁毅;李孟轩;文国昇设计研发完成，并于2022-03-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种图形化衬底、图形化衬底的制备方法及LED芯片在说明书摘要公布了：本发明提供一种图形化衬底、图形化衬底的制备方法及LED芯片，制备方法包括提供一蓝宝石衬底，并在蓝宝石衬底上沉积一层黄光涂胶，同时，制备掩膜版，将掩膜版上的图形转移到黄光涂胶上，得到第一图形化蓝宝石衬底，对第一图形化蓝宝石衬底进行蚀刻，并清洁，得到第二图形化蓝宝石衬底，在第二图形化蓝宝石衬底上制备光阻层，并将第二图形化蓝宝石衬底外圈的光阻层进行去除，得到第三图形化蓝宝石衬底，将第三图形化蓝宝石衬底进行蚀刻，并清洁，得到第四图形化蓝宝石衬底。本发明提供一种图形化衬底、图形化衬底的制备方法及LED芯片，旨在解决现有技术中，图形化蓝宝石衬底内外圈形貌不均匀，最终导致外延长晶外圈良率低的问题。
本发明授权一种图形化衬底、图形化衬底的制备方法及LED芯片在权利要求书中公布了：1.一种图形化衬底的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括： 提供一蓝宝石衬底，并在所述蓝宝石衬底上沉积一层黄光涂胶，同时，制备掩膜版； 将所述掩膜版上的图形转移到所述黄光涂胶上，得到第一图形化蓝宝石衬底； 对所述第一图形化蓝宝石衬底进行蚀刻，并清洁，得到第二图形化蓝宝石衬底； 在所述第二图形化蓝宝石衬底上制备光阻层，并将所述第二图形化蓝宝石衬底外圈的所述光阻层进行去除，得到第三图形化蓝宝石衬底； 将所述第三图形化蓝宝石衬底进行蚀刻，并清洁，得到第四图形化蓝宝石衬底； 最终制备得到的图形化衬底包括蓝宝石基板和所述蓝宝石基板向外延伸出的外延长晶层，所述外延长晶层包括掩膜部和位于所述掩膜部外侧的非掩膜部，所述掩膜部的高度高于所述非掩膜部的高度，所述掩膜部的宽度大于所述非掩膜部的宽度，且非掩膜部越靠近掩膜部，其高度越高，宽度越宽。
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