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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请的专利一种阵列基板及其制备方法、显示面板获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114551557B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210179878.0，技术领域涉及：H10K59/131；该发明授权一种阵列基板及其制备方法、显示面板是由曾朝军设计研发完成，并于2022-02-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种阵列基板及其制备方法、显示面板在说明书摘要公布了：本发明涉及显示技术领域，公开了一种阵列基板及其制备方法、显示面板，该阵列基板包括：衬底，以及依次层叠设置的第一导电层、绝缘层和第二导电层，其中，绝缘层中形成有缓冲槽，缓冲槽周侧中的至少一侧的侧壁形成沿缓冲槽的径向向外倾斜的斜坡结构，斜坡结构的表面朝向斜坡结构背离衬底的方向，斜坡结构的表面自绝缘层的顶面顺接至缓冲槽的底部；第二导电层在衬底上的正投影与第一导电层在衬底上的正投影具有交叠区域，缓冲槽在衬底上正投影与交叠区域具有交叠，第二导电层中的一部分通过斜坡结构延伸至缓冲槽的底部。该阵列基板中，缓冲槽的侧壁中具有斜坡结构，起到缓冲作用，使得在缓冲槽内的导电层连续性较好，保证导电层信号传输的可靠性。

本发明授权一种阵列基板及其制备方法、显示面板在权利要求书中公布了：1.一种阵列基板，其特征在于，包括： 衬底； 位于所述衬底上的第一导电层； 位于所述第一导电层上的绝缘层，所述绝缘层中形成有缓冲槽，所述缓冲槽周侧中的至少一侧的侧壁形成沿所述缓冲槽的径向向外倾斜的斜坡结构，所述斜坡结构的表面朝向所述斜坡结构背离所述衬底的方向，所述缓冲槽周侧中除所述斜坡结构之外的侧壁与所述衬底大致垂直，所述斜坡结构的表面自所述绝缘层的顶面顺接至所述缓冲槽的底部； 位于所述绝缘层背离所述衬底一侧的第二导电层，所述第二导电层在所述衬底上的正投影与所述第一导电层在所述衬底上的正投影具有交叠区域，且所述缓冲槽在所述衬底上正投影与所述交叠区域具有交叠，所述第二导电层中的一部分通过所述斜坡结构延伸至所述缓冲槽的底部； 所述第一导电层包括第一导电走线，所述第二导电层包括第二导电走线，且所述第一导电走线在所述衬底上的正投影与所述第二导电走线在所述衬底上的正投影相交，所述绝缘层中与所述第一导电走线和所述第二导电走线相交的区域相对的部位设置有所述缓冲槽，且与所述第一导电走线和所述第二导电走线相交的区域相对的缓冲槽为第二缓冲槽，所述第二缓冲槽不贯穿所述绝缘层，所述第二缓冲槽的周侧具有两个所述斜坡结构，且两个所述斜坡结构位于所述第二缓冲槽周侧中相对的两侧，两个所述斜坡结构的分布方向与所述第二导电走线的延伸方向相同。

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