苏州纳维科技有限公司徐琳获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州纳维科技有限公司申请的专利氮化镓外延层及其形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114121611B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111427485.9，技术领域涉及：H01L21/02；该发明授权氮化镓外延层及其形成方法是由徐琳设计研发完成，并于2021-11-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本氮化镓外延层及其形成方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种氮化镓外延层及其形成方法。所述氮化镓外延层的形成方法包括：在同一反应腔室内，先在加热条件下以氢气对氮化镓衬底表面进行清洁处理，之后以惰性气体等离子体轰击所述氮化镓衬底表面；其后，在所述反应腔室内，继续在所述氮化镓衬底表面生长形成氮化镓成核层，再在所述氮化镓成核层上生长形成致密氮化镓层，最后在所述致密氮化镓层上生长形成氮化镓外延层。本发明可以大幅节约氮化镓外延层的成膜时间，提高其生产效率，并杜绝氮化镓衬底转移过程中的污染，而且可以获得高质量的氮化镓外延层，利于氮化镓材料的大规模生产和推广应用。
本发明授权氮化镓外延层及其形成方法在权利要求书中公布了：1.一种氮化镓外延层的形成方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤： S1、将氮化镓衬底置入反应腔室，并在加热条件下采用氢气对所述氮化镓衬底的表面进行清洁处理； S2、在所述反应腔室内以惰性气体等离子体轰击所述氮化镓衬底表面，以至少清除所述氮化镓衬底表面的杂质以及在所述氮化镓衬底的表面缺陷处刻蚀形成凹坑结构，所述凹坑结构的深度和口径均为纳米级别； S3、向所述反应腔室内输入氮源和镓源，并控制反应腔室内的温度为第二温度、气压为第二气压，从而在所述氮化镓衬底表面生长形成氮化镓成核层，所述氮化镓成核层呈现为分散的柱状或者岛状成核材料结构； S4、继续向所述反应腔室内输入氮源和镓源，并控制反应腔室内的温度为第三温度、气压为第三气压，所述第三温度高于第二温度、所述第三气压高于第二气压，从而在所述氮化镓成核层上生长形成致密氮化镓层； S5、在所述致密氮化镓层上生长形成氮化镓外延层。
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