合肥京东方瑞晟科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司徐佳伟获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥京东方瑞晟科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司申请的专利一种阵列基板及其制备方法、发光装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114023770B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111280980.1，技术领域涉及：H10D86/60；该发明授权一种阵列基板及其制备方法、发光装置是由徐佳伟;杜芸;李必生;张志;张建英;郭总杰;范文金;董钊设计研发完成，并于2021-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种阵列基板及其制备方法、发光装置在说明书摘要公布了：本申请提供了一种阵列基板及其制备方法、发光装置，涉及显示技术领域，该阵列基板包括：衬底；位于衬底上的第一导电层，第一导电层包括多个第一镂空区；第二导电层，位于第一导电层远离衬底的一侧，且与第一导电层绝缘设置；第二导电层包括多个导电垫组，导电垫组包括至少一个导电垫；导电垫在第一导电层上的正投影位于第一镂空区以内；多个保护电极，保护电极位于第一镂空区，且导电垫在衬底上的正投影位于保护电极在衬底上的正投影以内；其中，对于正投影存在交叠区的保护电极和导电垫，保护电极的电压大于或等于导电垫的电压。该阵列基板解决了相关技术中导电垫被电化学腐蚀导致的阵列基板失效的问题，提升了阵列基板的可靠性。
本发明授权一种阵列基板及其制备方法、发光装置在权利要求书中公布了：1.一种阵列基板，其特征在于，包括： 衬底； 位于所述衬底上的第一导电层，所述第一导电层包括多个第一镂空区； 第二导电层，位于所述第一导电层远离所述衬底的一侧，且与所述第一导电层绝缘设置；所述第二导电层包括多个导电垫组，所述导电垫组包括至少一个导电垫；所述导电垫在所述第一导电层上的正投影位于所述第一镂空区以内； 多个保护电极，所述保护电极位于所述第一镂空区内，且所述导电垫在所述衬底上的正投影位于所述保护电极在所述衬底上的正投影以内； 其中，对于正投影存在交叠区的所述保护电极和所述导电垫，所述保护电极的电压大于或等于所述导电垫的电压。
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