东进世美肯株式会社咸昊完获国家专利权
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龙图腾网获悉东进世美肯株式会社申请的专利反射性电极保护层用化合物以及包含所述化合物的背面发光元件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114163338B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111063616.X，技术领域涉及：C07C211/58；该发明授权反射性电极保护层用化合物以及包含所述化合物的背面发光元件是由咸昊完;安贤哲;金东骏;李东炫;林东焕;安慈恩;权桐热;李成圭;诸焕日设计研发完成，并于2021-09-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本反射性电极保护层用化合物以及包含所述化合物的背面发光元件在说明书摘要公布了：本发明提供一种以下述化学式1表示的背面发光元件的反射性电极保护层用化合物。化学式1
本发明授权反射性电极保护层用化合物以及包含所述化合物的背面发光元件在权利要求书中公布了：1.一种背面发光元件，其特征在于，包含： 第1电极和第2反射性电极； 1层以上的有机物层，介于所述第1电极以及第2反射性电极的内侧；以及， 反射性电极保护层，配置在第2反射性电极的外侧，含有反射性电极保护层用化合物， 所述反射性电极保护层用化合物以下述化学式1表示： 化学式1 在所述化学式1中， X为NAr、O、S、或CRR`， Ar、Ar1至Ar4各自独立地为3环以下的芳基、或3环以下的杂芳基， L1以及L2各自独立地为直接结合、亚苯基或亚吡啶基， R和R`各自独立地为氢、氘、C1的烷基、C6的芳基，R和R`之间可以通过相互结合而形成或不形成环， R1以及R2各自独立地为氢或氘， l以及m各自独立地为0至3的整数。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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