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龙图腾网获悉常州捷佳创精密机械有限公司申请的专利镀膜设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113718234B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110984829.X，技术领域涉及：C23C16/50；该发明授权镀膜设备是由左国军;梁建军;杨虎设计研发完成，并于2021-08-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本镀膜设备在说明书摘要公布了：本发明的实施例提供了一种镀膜设备，包括：等离子体组件，包括：第一电极组件；第二电极组件，与第一电极组件的间隙形成沉积空间，物料位于沉积空间；热丝组件，用于利用温度场使反应物分解。本发明的技术方案中，同时采用等离子体增强化学气相沉积和热丝化学气相沉积工艺对硅片进行镀膜，热丝组件能够减弱离子轰击的副作用，降低由于离子轰击导致膜层产生缺陷的可能性，且热丝组件的无离子轰击作用有利于提高沉积薄膜的质量，结合第一电极组件和第二电极组件的等离子体增强的作用，薄膜的沉积面积均匀性好，降低了热丝本身镀膜的可能性，有利于实现太阳能电池的规模化生产，达到高速沉积微晶硅和纳米硅的目的，提高产品质量。

本发明授权镀膜设备在权利要求书中公布了：1.一种镀膜设备，其特征在于，包括： 第一电极组件111； 第二电极组件112，与所述第一电极组件111极性相反，所述第二电极组件112与所述第一电极组件111的间隙形成沉积空间113； 热丝组件120，设于所述第一电极组件111与所述第二电极组件112之间，或所述热丝组件120绕设于所述第一电极组件111以及所述第二电极组件112的外周，所述热丝组件120用于利用温度场使反应物分解， 其中，物料200位于所述沉积空间113内，所述物料200与所述第一电极组件111平行，且所述物料200与所述第二电极组件112平行； 在所述镀膜设备为板式结构的情况下，所述热丝组件120包括： 安装框架121，设于所述沉积空间113； 加热丝122，穿设于所述安装框架121； 承接柱141，所述承接柱141的一端与所述第一电极组件111连接，所述承接柱141的另一端与所述第二电极组件112连接，所述承接柱141上设有限位凸起142，所述安装框架121与所述限位凸起142连接； 在所述镀膜设备为筒式结构的情况下，所述镀膜设备还包括： 筒体130，所述第一电极组件111与所述第二电极组件112均设于所述筒体130内部，所述物料200能够沿所述筒体130的长度方向运动； 所述加热丝122的数量为多个，多个所述加热丝122平行设置；和或 多个所述加热丝122首尾相连； 所述第一电极组件111包括： 第一连接部1111，设于所述筒体130的内部； 多个第一电极板1112，设于所述第一连接部1111，相邻两个所述第一电极板1112之间的间距相同； 所述第二电极组件112包括： 第二连接部1121，设于所述筒体130的内部，所述第二连接部1121与所述第一连接部1111平行设置； 多个第二电极板1122，设于所述第二连接部1121，相邻两个所述第二电极板1122之间的间距相同； 所述第二电极板1122与所述第一电极板1112交错设置，所述第二电极板1122与所述第一电极板1112相互平行，所述第二电极板1122与所述第一电极板1112之间的间隙形成所述沉积空间113； 所述承接柱的数量为四个，四个所述承接柱分别位于所述电极组件的四角位置。

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