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龙图腾网获悉纽富来科技股份有限公司申请的专利带电粒子束描绘方法以及带电粒子束描绘装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114981923B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180010020.5，技术领域涉及：H01L21/027；该发明授权带电粒子束描绘方法以及带电粒子束描绘装置是由野村春之;中山贵仁设计研发完成，并于2021-04-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本带电粒子束描绘方法以及带电粒子束描绘装置在说明书摘要公布了：高精度地校正因带电现象而引起的位置偏移。带电粒子束描绘方法具备：将上述基板的描绘区域假想分割为规定的网格尺寸，计算表示每个网格区域的图案的配置比例的图案密度分布的工序；使用上述图案密度分布计算剂量分布的工序；使用上述图案密度分布以及上述剂量分布计算照射量分布的工序；计算覆盖带电粒子量分布的工序；计算由直接带电产生的带电量分布以及由覆盖带电产生的带电量分布的工序；计算基于由上述直接带电产生的带电量分布以及由上述覆盖带电产生的带电量分布的描绘位置的位置偏移量的工序；使用上述位置偏移量校正照射位置的工序；以及向上述校正后的照射位置照射上述带电粒子束，以使上述基板的表面的电位比电位规定部件的下表面的电位高的工序。

本发明授权带电粒子束描绘方法以及带电粒子束描绘装置在权利要求书中公布了：1.一种带电粒子束描绘方法，通过偏转器使带电粒子束偏转，通过物镜对焦，在工作台上的基板描绘图案，具备： 将上述基板的描绘区域假想分割为规定的网格尺寸，计算表示每个网格区域的上述图案的配置比例的图案密度分布的工序； 使用上述图案密度分布计算表示每个网格区域的剂量的剂量分布的工序； 使用上述图案密度分布以及上述剂量分布计算向上述基板照射的上述带电粒子束的照射量分布的工序； 通过对覆盖带电粒子的分布函数和上述照射量分布进行卷积积分来计算覆盖带电粒子量分布的工序； 使用上述图案密度分布、上述剂量分布以及上述照射量分布计算由直接带电产生的带电量分布，并使用上述覆盖带电粒子量分布计算由覆盖带电产生的带电量分布的工序； 计算基于由上述直接带电产生的带电量分布以及由上述覆盖带电产生的带电量分布的描绘位置的位置偏移量的工序； 使用上述位置偏移量校正照射位置的工序；以及 以使上述基板的表面的电位比配置在与上述基板对置的位置的电位规定部件的下表面的电位高的方式向上述基板和上述电位规定部件的至少任一方施加基于电压与从描绘图案的设计位置的位置偏移量之间的关系预先求出的规定的电压而形成电场，并向上述校正后的照射位置照射上述带电粒子束的工序。

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