国际商业机器公司J·马尼斯卡尔科获国家专利权
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龙图腾网获悉国际商业机器公司申请的专利具有注入钴的钌衬里和钴盖帽的互连结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115066749B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180012703.4，技术领域涉及：H01L23/532；该发明授权具有注入钴的钌衬里和钴盖帽的互连结构是由J·马尼斯卡尔科;本山幸一;O·范德斯特拉滕;S·德夫里;A·雷茨尼采克设计研发完成，并于2021-01-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有注入钴的钌衬里和钴盖帽的互连结构在说明书摘要公布了：一种互连结构及其形成方法，包括在介电层内形成凹槽，并在凹槽内保形沉积阻挡层。在阻挡层上方形成注入钴的钌衬里，通过在第一衬里上方堆叠第二衬里来形成含钴的钌衬里，第一衬里位于阻挡层上方。第一衬里包括钌，而第二衬里包括钴。钴原子从第二衬里迁移到第一衬里，形成注入钴的钌衬里。在注入钴的钌衬里上方沉积导电材料以填充凹槽，随后沉积由钴制成的覆盖层。
本发明授权具有注入钴的钌衬里和钴盖帽的互连结构在权利要求书中公布了：1.一种形成互连结构的方法，包括： 在介电层内形成凹槽； 在所述凹槽内保形地沉积阻挡层； 在所述阻挡层上方形成注入钴的钌衬里，含钴的钌衬里包括： 在所述阻挡层上方的第一衬里，所述第一衬里包括钌；以及 在所述第一衬里上方的第二衬里，所述第二衬里包含钴； 在所述第二衬里上方的第三衬里，所述第三衬里包括钌，其中钴原子从所述第二衬里到所述第一衬里和所述第三衬里的迁移形成注入钴的钌衬里，其中所述注入钴的钌衬里减小覆盖层与所述注入钴的钌衬里之间的浓度梯度用于防止钴原子从所述覆盖层扩散； 在所述注入钴的钌衬里上方沉积导电材料以填充所述凹槽；以及 在所述导电材料的顶表面上方形成覆盖层，所述覆盖层包括钴。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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