北京北方华创微电子装备有限公司吕嘉文获国家专利权
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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利工艺腔室中工位位置的校准方法、半导体工艺设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN112530850B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202011406983.0,技术领域涉及:H01L21/68;该发明授权工艺腔室中工位位置的校准方法、半导体工艺设备是由吕嘉文设计研发完成,并于2020-12-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本工艺腔室中工位位置的校准方法、半导体工艺设备在说明书摘要公布了:本申请实施例提供了工艺腔室中工位位置的校准方法、半导体工艺设备,该方法包括:利用传输装置将校准件放置到预设位置,利用校准装置将校准件旋转至预设朝向,其中,校准件包括多个开孔,多个开孔与工艺腔室中卡盘上的多个顶针一一对应的设置,开孔的侧壁呈锥形,用于容纳顶针;利用传输装置将旋转至预设朝向的校准件传入工艺腔室,使校准件位于卡盘的上方,升起多个顶针,控制传输装置下降,将多个顶针分别导入多个所述开孔中,由多个顶针支撑校准件;利用传输装置将校准件传出工艺腔室,并利用校准装置检测相对于预设位置校准件在预设方向上的偏移量;基于偏移量对当前的工位位置进行校准,得到校准后的工位位置。
本发明授权工艺腔室中工位位置的校准方法、半导体工艺设备在权利要求书中公布了:1.一种工艺腔室中工位位置的校准方法,其特征在于,所述方法包括: 利用传输装置将校准件放置到预设位置,利用校准装置将所述校准件旋转至预设朝向,其中,所述校准件包括多个开孔,多个所述开孔与工艺腔室中卡盘上的多个顶针一一对应的设置,所述开孔的侧壁呈锥形,用于容纳所述顶针; 利用传输装置将旋转至所述预设朝向的所述校准件传入所述工艺腔室,使所述校准件位于所述卡盘的上方,升起多个所述顶针,控制所述传输装置下降,将多个所述顶针分别导入多个所述开孔中,由多个所述顶针支撑所述校准件; 利用所述传输装置将所述校准件传出所述工艺腔室,并利用所述校准装置检测相对于所述预设位置所述校准件在预设方向上的偏移量;所述偏移量基于所述顶针在所述开孔的锥形侧壁作用下,带动所述校准件形成; 基于所述偏移量对当前的工位位置进行校准,得到校准后的工位位置。
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