ASML荷兰有限公司艾曼·哈穆达获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利用于目标图案的基于规则的重靶向的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114600047B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080074277.2，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权用于目标图案的基于规则的重靶向的方法是由艾曼·哈穆达设计研发完成，并于2020-09-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于目标图案的基于规则的重靶向的方法在说明书摘要公布了：本文描述一种用于产生用于待印刷于衬底上的目标图案的重靶向图案的方法。该方法包括：获得i包括至少一个特征的目标图案，该至少一个特征具有包括第一维度和第二维度的几何形状；以及ii多个偏差规则，该多个偏差规则被定义为第一维度、第二维度和与目标图案的在测量区域内的特征相关联的性质的函数；确定所述性质的在目标图案的至少一个特征上的多个位置处的值，每个位置均被所述测量区域包围；基于所述性质的所述值，从所述多个偏差规则中选择偏差的子集；以及通过将所选择的偏差的子集应用至目标图案的所述至少一个特征，产生重靶向图案。
本发明授权用于目标图案的基于规则的重靶向的方法在权利要求书中公布了：1.一种产生用于待印刷于衬底上的目标图案的重靶向图案的方法，所述方法包括： 获得（i）包括至少一个特征的所述目标图案以及（ii）多个偏差规则，所述至少一个特征具有包括第一维度和第二维度的几何形状，所述多个偏差规则被定义为所述第一维度、所述第二维度和与所述目标图案的在测量区域内的多个特征相关联的性质的函数； 确定所述性质的在所述目标图案的所述至少一个特征上的多个位置处的值，其中，每个位置均被所述测量区域包围； 基于所述性质的所述值，从所述多个偏差规则中选择针对所述至少一个特征上的所述多个位置的偏差的子集；以及 通过将所选择的偏差的子集应用至所述目标图案的所述至少一个特征，产生用于所述目标图案的所述重靶向图案。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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