南京源昌新材料有限公司李建稳获国家专利权
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龙图腾网获悉南京源昌新材料有限公司申请的专利一种用于生产碳纳米管薄膜的联排CVD反应装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112981363B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201911278328.9，技术领域涉及：C23C16/26；该发明授权一种用于生产碳纳米管薄膜的联排CVD反应装置是由李建稳;何占宇;曾培源;王帝;沈健民设计研发完成，并于2019-12-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于生产碳纳米管薄膜的联排CVD反应装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种用于生产电阻均一的碳纳米管薄膜的CVD反应装置，具体涉及碳纳米管薄膜生产装置技术领域，包括一支大反应管，所述大反应管的内腔中周向均匀设有若干反应室，每个所述反应室的形状大小相同。本发明，一方面通过增加CVD反应装置内参与生产碳纳米管薄膜的反应室的数量，来提高单位时间内碳纳米管的产出量，缩短碳纳米管薄膜的收集时间，进而有效的减少能源浪费。另一方面，通过增加碳纳米管管束的数量，有效的减小因单支碳纳米管管束的中断，对碳纳米管薄膜电阻均一性的影响。
本发明授权一种用于生产碳纳米管薄膜的联排CVD反应装置在权利要求书中公布了：1.一种用于生产碳纳米管薄膜的联排CVD反应装置，其特征在于，包括一支大反应管，所述大反应管的内腔中周向均匀设有若干反应室，每个所述反应室的形状大小相同； 所述反应室由小反应管构成，所述大反应管内设有支撑管，所述大反应管的轴线和所述支撑管的轴线重合，所有的所述小反应管环绕所述支撑管以紧密堆积方式安置于所述大反应管内； 所述小反应管和所述支撑管的外径一样大； 相邻的所述小反应管之间的缝隙以及所述小反应管和所述支撑管之间的缝隙内填充导热和缓冲材料； 所述支撑管为实心填充管。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人南京源昌新材料有限公司，其通讯地址为：211500 江苏省南京市六合区雄州街道河畔家园A区1号楼1009室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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