广立微(上海)技术有限公司苌文龙获国家专利权
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龙图腾网获悉广立微(上海)技术有限公司申请的专利一种熔线熔断影响的监控结构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223284989U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422629704.7，技术领域涉及：H01L23/544；该实用新型一种熔线熔断影响的监控结构是由苌文龙;袁大星;李兆媛设计研发完成，并于2024-10-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种熔线熔断影响的监控结构在说明书摘要公布了：本实用新型涉及一种熔线熔断影响的监控结构，包括多组监控单元，在熔线的熔断工艺影响范围内，设置多组监控单元；所述监控单元中连接有至少一个目标对象；所述目标对象包括有源区层、多晶硅层、金属层和连接孔层中的至少一个结构。采用所述监控结构，能够实现多层多维度精细化监控Fuse周围环境的健康程度，综合判断Fuse熔断工艺前后对Fuse上下层器件的影响范围。
本实用新型一种熔线熔断影响的监控结构在权利要求书中公布了：1.一种熔线熔断影响的监控结构，其特征在于，包括多组监控单元； 在所述熔线的重叠区域和或周边区域内，设置多组监控单元； 所述监控单元中连接有至少一个目标对象； 所述目标对象包括有源区层、多晶硅层、金属层和连接孔层中的至少一个结构。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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