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万华化学集团股份有限公司郭华获国家专利权

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龙图腾网获悉万华化学集团股份有限公司申请的专利一种高折射聚合物和制备方法及应用获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116376000B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310000497.6,技术领域涉及:C08G64/30;该发明授权一种高折射聚合物和制备方法及应用是由郭华;李光;靳少华;许泽旺;邵雪飞设计研发完成,并于2023-01-03向国家知识产权局提交的专利申请。

一种高折射聚合物和制备方法及应用在说明书摘要公布了:本发明提供了一种高折射聚合物和制备方法及应用,该高折射聚合物包括源自通式Y所示生物基单体的结构单元另外包括源自通式A所示的化合物的结构单元和源自通式B所示的化合物的结构单元中的任意一种或两种。本发明高折射聚合物适用于制备光学透镜。

本发明授权一种高折射聚合物和制备方法及应用在权利要求书中公布了:1.一种高折射聚合物,其特征在于,所述聚合物的结构单元选自: 源自通式Y所示生物基单体的结构单元, 通式Y中,R1各自独立地表示氢原子、甲氧基;R2各自独立地表示C2~C15的烷基、C5~C15的环烷基;R3表示C6~C12的环烷基,C6~C20的烷基; 源自通式A所示的化合物的结构单元, 通式A中,R4、R5分别独立地表示氢原子、C1~C20的烷基、C1~C20的烷氧基、C5~C20的环烷基、C5~C20的环烷氧基、C6~C20的芳基、C6~C20的芳氧基; 源自通式B所示的化合物的结构单元, 通式B中,R6、R7分别独立地表示氢原子、C1~C20的烷基、C1~C20的烷氧基、C5~C20的环烷基、C20的环烷氧基、C6~C20的芳基、C6~C20的芳氧基; 其中,所述源自通式A所示的化合物的结构单元和源自通式B所示的化合物的结构单元任选其中一种或者两种; 所述高折射聚合物末端羟基含量低于1000ppm; 所述聚合物采用通式A和或通式B所示的化合物,与通式Y所示生物基单体,以及任选的碳酸二酯进行聚合反应制得;所述碳酸二酯选自碳酸二苯酯、碳酸二甲苯酯中的至少一种。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人万华化学集团股份有限公司,其通讯地址为:264006 山东省烟台市经济技术开发区重庆大街59号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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