芝浦机械电子装置株式会社池户满获国家专利权
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龙图腾网获悉芝浦机械电子装置株式会社申请的专利供给装置、成膜装置及保持构件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116265599B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211593491.6，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权供给装置、成膜装置及保持构件是由池户满;松桥亮;久保田翔大;白川义広设计研发完成，并于2022-12-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本供给装置、成膜装置及保持构件在说明书摘要公布了：本发明提供一种能够通过简易的机构使大量电子零件的一部分为了成膜而统一露出的供给装置、成膜装置及保持构件。实施方式的供给装置向对电子零件进行成膜的成膜装置的成膜处理部供给电子零件，其包括：掩模，具有覆盖电子零件的一部分的掩模孔，以使电子零件贯穿于掩模孔并保持的状态供给至所述成膜处理部；第一承受台，保持掩模的其中一面，且贯穿掩模孔的电子零件的一端与其接触；第二承受台，保持掩模的另一面，且贯穿掩模孔的电子零件的另一端与其接触；以及反转机构，在由第一承受台与第二承受台夹持掩模的状态下使掩模反转。
本发明授权供给装置、成膜装置及保持构件在权利要求书中公布了：1.一种供给装置，向对电子零件进行成膜的成膜装置的成膜处理部供给所述电子零件，且包括： 掩模，具有覆盖所述电子零件的一部分的掩模孔，以使所述电子零件贯穿于所述掩模孔并保持的状态供给至所述成膜处理部； 第一承受台，保持所述掩模的其中一面，且贯穿所述掩模孔的所述电子零件的一端与其接触； 第二承受台，保持所述掩模的另一面，且贯穿所述掩模孔的所述电子零件的另一端与其接触； 反转机构，在由所述第一承受台与所述第二承受台夹持所述掩模的状态下使所述掩模反转； 暂置台，暂置所述第一承受台或所述第二承受台；以及 承受台移动机构，使所述第一承受台或所述第二承受台从所述暂置台移动至进行反转的所述掩模并重叠，反转后，使所述第一承受台及所述第二承受台中成为上侧者移动至所述暂置台。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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