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龙图腾网获悉日产化学株式会社申请的专利用于形成剥离层的组合物和剥离层获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116917399B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202280018564.0，技术领域涉及：C08L1/08；该发明授权用于形成剥离层的组合物和剥离层是由松山元信;进藤和也;古川优树设计研发完成，并于2022-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于形成剥离层的组合物和剥离层在说明书摘要公布了：作为可形成具有高耐热性和适度的剥离性、成膜后的稳定性优异的剥离层的用于形成剥离层的组合物，提供下述用于形成剥离层的组合物，其包含：AA1具有羟基烷基的纤维素或其衍生物等、B酸化合物或其盐、C选自具有用羟基烷基和或烷氧基甲基取代的氮原子的化合物中的交联剂、D包含由式a1、式b和式c表示的重复单元的高分子添加剂、E溶剂，相对于100质量份A成分，含有5～100质量份的D成分。RA为氢原子或甲基，RB1为至少一个氢原子被氟原子取代的碳原子数3或4的分支状烷基，RC为碳原子数1～10的羟基烷基，RD为碳原子数的6～20的多环式烷基或碳原子数6～12的芳基。

本发明授权用于形成剥离层的组合物和剥离层在权利要求书中公布了：1.用于形成剥离层的组合物，其包含： （A）（A1）具有羟基烷基的纤维素或其衍生物、（A2）具有羟基的聚酯、或者（A3）在侧链具有碳原子数2～6的伯或仲羟基烷基的具有伯或仲羟基并且不具有氟原子的丙烯酸系聚合物， （B）磺酸化合物或其盐， （C）选自由下述式（C-1）～（C-5）的任一个表示的具有用羟基烷基和或烷氧基甲基取代的氮原子的化合物中的交联剂， （D）包含由下述式（a1）表示的重复单元、由下述式（b）表示的重复单元和由下述式（c）表示的重复单元的高分子添加剂，和 （E）溶剂； 相对于100质量份所述（A）成分，该用于形成剥离层的组合物包含5～100质量份的所述（D）高分子添加剂， 式（C-1）～（C-5）中，R11～R26各自独立地为碳原子数1～6的烷基，R27为氢原子或甲基， 式中，RA各自独立地为氢原子或甲基，RB1为至少一个氢原子被氟原子取代的碳原子数3或4的分支状的烷基，RC为碳原子数1～10的羟基烷基，RD为碳原子数6～20的多环式烷基或碳原子数6～12的芳基。

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