京东方科技集团股份有限公司何伟获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司申请的专利发光基板及其制备方法、显示面板、显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114551699B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210157363.0，技术领域涉及：H10H29/856；该发明授权发光基板及其制备方法、显示面板、显示装置是由何伟;李翔;邹浩伟;徐胜;吴慧利;李士佩;张立震;黎午升;姚琪设计研发完成，并于2022-02-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本发光基板及其制备方法、显示面板、显示装置在说明书摘要公布了：本发明涉及一种发光基板及其制备方法、显示面板及显示装置。该发光基板包括衬底基板，所述衬底基板的一侧设置有电信号走线层、第一反射层和发光单元；所述电信号走线层和发光单元连接，用于向所述发光单元提供电信号；所述第一反射层用于将入射到第一反射层上的光反射射出；所述发光基板还包括形成在第一反射层上的反射层上结构，所述反射层上结构包括至少一个功能层，所述反射层上结构的整体光透过率大于设定值。上述发光基板，其反射层上结构的整体光透过率大于设定值，这样可以保证第一反射层反射再利用，从透光区透射的光较多，也就会有更多的光从发光基板的出光面射出。
本发明授权发光基板及其制备方法、显示面板、显示装置在权利要求书中公布了：1.一种发光基板，其特征在于，所述发光基板包括衬底基板，所述衬底基板的一侧设置有电信号走线层、第一反射层和发光单元； 所述电信号走线层和发光单元连接，用于向所述发光单元提供电信号； 所述第一反射层用于将入射到第一反射层上的光反射射出； 所述发光基板还包括形成在第一反射层上的反射层上结构，所述反射层上结构包括至少一个功能层，所述反射层上结构的整体光透过率大于设定值； 所述发光基板的上方设置有反射器件，所述反射器件将所述发光单元射向上方的光反射，向下方射出；向下方射出的光线中，一部分经过所述反射层上结构照射在所述第一反射层上，被所述第一反射层反射向位于所述发光基板上侧的所述反射器件上，使该部分光线中的至少部分能够经所述反射器件的反射，射向所述发光基板的透光区。
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