东京毅力科创株式会社松浦广行获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利热处理方法和热处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112420510B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010794218.4，技术领域涉及：H01L21/324；该发明授权热处理方法和热处理装置是由松浦广行设计研发完成，并于2020-08-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本热处理方法和热处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供热处理方法和热处理装置。本发明的一个方式的热处理方法包括：在基片上形成膜中氢浓度为5×1019atomscm3以上的非晶硅膜的步骤；和通过对上述基片照射微波，以对上述非晶硅膜进行加热而从上述非晶硅膜形成多晶硅膜的步骤。本发明能够形成大粒径的多晶硅膜。
本发明授权热处理方法和热处理装置在权利要求书中公布了：1.一种热处理方法，其特征在于，包括： 在基片上形成膜中氢浓度为5×1019atomscm3以上的非晶硅膜的步骤； 利用电阻发热体的发热，以比非晶硅膜结晶化的温度低的第1温度，对以石英制的处理容器的内部被减压得低于大气压的状态被收纳在其中的所述基片进行加热的步骤；和 通过对以所述处理容器的内部被减压得低于大气压且利用电阻发热体的发热而被加热了的状态被收纳在所述处理容器的内部的所述基片照射微波，来以第2温度加热所述非晶硅膜而从所述非晶硅膜形成多晶硅膜的步骤，其中，所述第2温度是比所述第1温度高的所述非晶硅膜结晶化的温度。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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