朗姆研究公司道格拉斯·沃尔特·阿格纽获国家专利权
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龙图腾网获悉朗姆研究公司申请的专利原子层沉积工艺中的氧化转化获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112335019B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980044136.3，技术领域涉及：H01L21/02；该发明授权原子层沉积工艺中的氧化转化是由道格拉斯·沃尔特·阿格纽;约瑟夫·R·阿贝尔;巴特·简·范施拉芬迪克设计研发完成，并于2019-06-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本原子层沉积工艺中的氧化转化在说明书摘要公布了：描述了一种用于处理衬底的方法。将气相的第一反应物引入其中具有该衬底的反应室中。允许该第一反应物被吸附到该衬底的表面上。在该第一反应物的流停止之后，从该反应室中清扫该第一反应物的未反应部分。在该第一反应物被吸附到该衬底的表面上的同时，将该第二反应物以气相引入该反应室。该第二反应物包括比例为1∶1∶1的二氢H2、含氮反应物和含氧反应物。基于该第二反应物点燃等离子体。该衬底的表面暴露于该等离子体。该等离子体熄灭。从该反应室中清扫气体。
本发明授权原子层沉积工艺中的氧化转化在权利要求书中公布了：1.一种用于在原子层沉积过程中减少氧化转化过程中杂质的处理衬底的方法，所述方法包括： 将第一反应物气体输送到其中具有所述衬底的反应室中，所述第一反应物气体的反应部分被吸附到所述衬底的表面上； 从所述反应室中清扫所述第一反应物气体的未反应部分，所述第一反应物气体的所述未反应部分不被吸附到所述衬底的所述表面上； 将第二反应物气体输送到所述反应室中，所述第二反应物气体包括氢气H2气体、氮基反应物气体和氧基反应物气体； 在所述反应室内用所述第二反应物气体点燃等离子体，所述等离子体暴露于所述衬底的所述表面； 熄灭所述等离子体；以及 在熄灭所述等离子体之后清扫所述反应室。
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