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龙图腾网获悉北京石墨烯研究院;北京大学申请的专利一种超平整石墨烯电镜支撑膜的批量化制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120270985B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510747847.4，技术领域涉及：C01B32/194；该发明授权一种超平整石墨烯电镜支撑膜的批量化制备方法是由彭海琳;王洪芳;郑黎明;杨立晨;贾开诚;刘忠范设计研发完成，并于2025-06-06向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种超平整石墨烯电镜支撑膜的批量化制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种超平整石墨烯电镜支撑膜的批量化制备方法，属于材料领域。本发明方法包括：利用电化学剥离法将石墨烯与预氧化的铜金属生长衬底进行分离，转移至高分子复合媒介；然后用溶剂热贴合法，将高分子膜支撑的石墨烯与电镜载网进行共形贴合，去除聚合物媒介后得到石墨烯载网。本发明方法工艺简单，可重复高，兼容性强，可大规模制备生产。本发明方法制备的石墨烯支撑膜完整度高达90%，载网悬空孔内石墨烯具有超平整和良好的洁净度特点。

本发明授权一种超平整石墨烯电镜支撑膜的批量化制备方法在权利要求书中公布了：1.一种超平整石墨烯电镜支撑膜的批量化制备方法，包括如下步骤S1、S2、S3、S4、S5，或步骤S1*、S2*、S3、S4、S5： S1、对石墨烯金属基底进行预氧化处理得到石墨烯氧化的金属基底； S2、在所述石墨烯氧化的金属基底的表面依次涂覆小分子缓冲层和高分子复合媒介层，形成复合媒介层石墨烯氧化的金属基底的复合结构； S1*、在石墨烯金属基底的表面依次涂覆小分子缓冲层和高分子复合媒介层，形成复合媒介层石墨烯金属基底的复合结构； S2*、对所述复合媒介层石墨烯金属基底进行预氧化处理得到复合媒介层石墨烯氧化的金属基底的复合结构； S3、在所述复合媒介层表面贴合自支撑层，得到自支撑层复合媒介层石墨烯氧化的金属基底的复合结构； S4、通过电化学剥离法将氧化的金属基底与自支撑层复合媒介层石墨烯的复合结构分离； S5、将所述自支撑层复合媒介层石墨烯与电镜载网贴合，去除所述自支撑层和所述复合媒介层，得到石墨烯电镜载网复合结构； 所述金属基底为蓝宝石晶圆上制备的铜单晶薄膜； 步骤S1或S2*中，所述预氧化处理的步骤为： 将所述石墨烯金属基底浸泡于醇水混合液； 所述醇水混合液中，醇为乙醇、异丙醇或乙二醇的一种或多种； 步骤S2或S1*中，所述小分子缓冲层包含薄荷醇、冰片和环十二烷中的一种或多种； 所述高分子复合媒介层包含聚碳酸丙烯酯和聚甲基丙烯酸甲酯的混合物； 所述聚碳酸丙烯酯和所述聚甲基丙烯酸甲酯的混合物中，所述聚碳酸丙烯酯的质量分数为80-99%。

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