长沙麓邦光电科技有限公司田兴波获国家专利权
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龙图腾网获悉长沙麓邦光电科技有限公司申请的专利一种紫外宽波段低反射薄膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120249882B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510732962.4，技术领域涉及：C23C14/10；该发明授权一种紫外宽波段低反射薄膜及其制备方法是由田兴波;李湘;李晓春设计研发完成，并于2025-06-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种紫外宽波段低反射薄膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明属于光学薄膜技术领域，具体涉及一种紫外宽波段低反射薄膜及其制备方法。本发明提供的紫外宽波段低反射薄膜包括交替层叠设置的低折射率材料和高折射率材料，低折射率材料包括SiO2、Al2O3和MgF2中的一种或两种，高折射率材料为HfO2。本发明通过选择适宜的低折射率材料和高折射率材料，然后通过膜系设计软件对紫外宽波段低反射薄膜进行膜系设计，依据膜系设计结果在基底上镀制，成功制备得到紫外波段为10~400nm，平均反射率＜0.5%的紫外宽波段低反射薄膜，且制备方法简单易行，降低了薄膜杂质、缺陷生成的概率，进而提升薄膜的机械性能以及抗激光损伤的能力。
本发明授权一种紫外宽波段低反射薄膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种紫外宽波段低反射薄膜，其特征在于，所述紫外宽波段低反射薄膜的紫外波段为240~400nm，平均反射率＜0.5%时，所述紫外宽波段低反射薄膜为依次层叠设置的Al2O3膜层、HfO2膜层和MgF2膜层，所述Al2O3膜层与基底底面接触，厚度分别为Al2O3：43.69nm，HfO2：69.79nm，MgF2：52.93nm； 或者所述紫外宽波段低反射薄膜的紫外波段280~370nm，在入射光角度为0~35°，平均反射率＜0.25%时，所述紫外宽波段低反射薄膜为依次层叠设置的第一层氧化铪层，厚度为14.42nm，第一层氧化铪层与基底底面接触，第二层二氧化硅层，厚度为16.21nm，第三层氧化铪层，厚度为44.37nm，第四层二氧化硅层，厚度为55.56nm。
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