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龙图腾网获悉迅势科技(苏州)有限公司申请的专利一种用于压力传感器的压力控制系统及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119852199B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411930666.7，技术领域涉及：H01L21/66；该发明授权一种用于压力传感器的压力控制系统及方法是由王琼;张志军设计研发完成，并于2024-12-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于压力传感器的压力控制系统及方法在说明书摘要公布了：本发明涉及数据监测技术领域，是一种用于压力传感器的压力控制系统及方法，具体方法包括：根据目标刻蚀槽型建立数字孪生模型，并对数字孪生模型进行刻蚀监测单位区域的划分；实时采集待刻蚀半导体基板上各个刻蚀凹槽的刻蚀状态数据，获取各个凹槽深度层的刻蚀效率指数和刻蚀质量指数；根据刻蚀效率指数和刻蚀质量指数，动态筛选待调节的刻蚀监测单位区域，并控制压力传感器执行压力控制策略；本发明解决了现有技术中，刻蚀精度不足和刻蚀效率低下的问题。

本发明授权一种用于压力传感器的压力控制系统及方法在权利要求书中公布了：1.一种用于压力传感器的压力控制方法，其特征在于，所述方法包括如下具体步骤： S1：识别待刻蚀半导体基板的刻蚀任务中的目标刻蚀槽型，根据所述目标刻蚀槽型建立数字孪生模型，并对数字孪生模型进行刻蚀监测单位区域的划分； S2：开启氟塑阀门，通过氟塑阀门内置的压力传感器，控制刻蚀气体流入刻蚀反应室，并实时采集待刻蚀半导体基板上各个刻蚀凹槽的刻蚀状态数据； S3：提取同一凹槽深度层上，每个横向刻蚀监测单位区域组的刻蚀状态数据，并将每个横向刻蚀监测单位区域组的刻蚀状态数据导入刻蚀效率核对策略中，获取各个凹槽深度层的刻蚀效率指数； S4：通过电子扫描设备，获取相邻凹槽深度层中，每个纵向刻蚀监测单位区域组的刻蚀状态数据，并将每个纵向刻蚀监测单位区域组的刻蚀状态数据导入刻蚀质量核对策略中，计算各个相邻凹槽深度层的刻蚀质量指数； 计算各个相邻凹槽深度层的刻蚀质量指数，具体包括：zln,zln-1分别为第n个和第n-1个凹槽深度层的刻蚀质量指数，c′为第n个凹槽深度层中，个纵向刻蚀监测单位区域组中，与最接近的粗糙值； Cmax,Cmin分别为个纵向刻蚀监测单位区域组中，粗糙值的最大值和粗糙值的最小值； S5：根据刻蚀效率指数和刻蚀质量指数，动态筛选待调节的刻蚀监测单位区域，并控制压力传感器执行压力控制策略； 其中，S5包括： S51：根据刻蚀效率指数和刻蚀质量指数，构建刻蚀达标函数Fn，Fn＝k1×xln+k2×zln，k1,k2分别为刻蚀效率指数和刻蚀质量指数的占比系数； S52：预设刻蚀达标基线，当监测到存在凹槽深度层的刻蚀达标值低于刻蚀达标基线时，动态筛选该凹槽深度层为待调节的刻蚀监测单位区域，同步提取该凹槽深度层的刻蚀效率指数和刻蚀质量指数； S53：预设刻蚀标准效率，当该凹槽深度层的刻蚀效率指数低于刻蚀标准效率时，控制刻蚀反应腔内刻蚀气体流入喷嘴的方向； S54：预设刻蚀标准质量，当该凹槽深度层的刻蚀质量指数低于刻蚀标准质量时，控制氟塑阀门的阀门开度，增加刻蚀反应腔内刻蚀气体的压力。

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