深圳市矩阵多元科技有限公司杨福满获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市矩阵多元科技有限公司申请的专利一种环形双层布气结构获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223292624U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422578734.X,技术领域涉及:C23C14/35;该实用新型一种环形双层布气结构是由杨福满;肖荣锋;杨洪生;朱新华;张晓军;黎佐兴;庞才伟;袁明;冯琳设计研发完成,并于2024-10-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种环形双层布气结构在说明书摘要公布了:本申请提供了一种环形双层布气结构,属于半导体镀膜设备技术领域,包括腔体,所述腔体的内部设置有腔室,所述腔体围绕所述腔室的周向设置环形气道,所述环形气道沿所述腔室的周向设置多个连通所述腔室的出气口;遮挡部,所述遮挡部设置延伸部,所述延伸部遮盖所述出气口。在工艺气体送入的时候,先通过环形气道分布到腔室的四周,再经出气口向内输送,并且向内输送的时候,遮挡部与腔室的内侧壁之间会形成均气间隙,工艺气体会在该均气间隙内再次均匀后,绕过遮挡部进入腔室内,能够有效确保进气均匀性。并且,由于延伸部遮盖了出气口,可以有效避免出气口被镀膜导致堵塞,解决堵塞问题。
本实用新型一种环形双层布气结构在权利要求书中公布了:1.一种环形双层布气结构,其特征在于,包括: 腔体,所述腔体的内部设置有腔室,所述腔体围绕所述腔室的周向设置环形气道,所述环形气道沿所述腔室的周向设置多个连通所述腔室的出气口; 遮挡部,所述遮挡部设置于所述腔室内,所述遮挡部设置延伸部,所述延伸部与所述腔室的内侧壁之间具有间距、并遮盖所述出气口。
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