北京虹程光电子有限公司张程获国家专利权
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龙图腾网获悉北京虹程光电子有限公司申请的专利一种薄膜制备用气相沉积设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223292635U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422495397.8，技术领域涉及：C23C16/448；该实用新型一种薄膜制备用气相沉积设备是由张程;黄玲程设计研发完成，并于2024-10-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种薄膜制备用气相沉积设备在说明书摘要公布了：本实用新型涉及薄膜制备技术领域，具体为一种薄膜制备用气相沉积设备，包括真空腔室，所述真空腔室顶端设置有沉积腔室，所述沉积腔室内部设置有沉积机构，所述真空腔室内部设置有水冷机构，在气相沉积作业进行中时，可以透过顶部密闭盖中部设置的硼玻璃观察窗对沉积情况进行观察，相较于传统遮蔽式的密封方式，该种设计可方便实验人员对实验过程的直观了解。通过水冷机构设置的进水管、出水管、温度探针和温度感应器，可以实时观察到蒸发导体的温度变化，由于蒸发导体也有熔点，因此，需要对蒸发导体的自身温度进行控制，避免其达到熔点而损坏设备，当蒸发导体到达熔点温度临界点时，开启水阀通水冷却，使得蒸发导体得以降温。
本实用新型一种薄膜制备用气相沉积设备在权利要求书中公布了：1.一种薄膜制备用气相沉积设备，包括真空腔室100，其特征在于：所述真空腔室100顶端设置有沉积腔室101，所述沉积腔室101内部设置有沉积机构，所述真空腔室100内部设置有水冷机构，所述真空腔室100与沉积腔室101连通； 所述沉积机构包括蒸发导体200，所述蒸发导体200上部固定安装有蒸发船201，所述蒸发导体200与水冷机构相互连接，所述沉积腔室101顶端设置有顶部密闭盖202，所述顶部密闭盖202中部设置有硼玻璃观察窗203； 所述水冷机构包括进水管300、出水管301，所述进水管300和出水管301相互连通，所述进水管300和出水管301顶部与蒸发导体200固定连接，所述进水管300设置有水阀302。
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