Document
拖动滑块完成拼图
个人中心

预订订单
商城订单
发布专利 发布成果 人才入驻 发布商标 发布需求

请提出您的宝贵建议,有机会获取IP积分或其他奖励

投诉建议

在线咨询

联系我们

龙图腾公众号
首页 专利交易 IP管家助手 科技果 科技人才 积分商城 国际服务 商标交易 会员权益 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索
当前位置 : 首页 > 专利喜报 > 沈阳工业大学杨甜甜获国家专利权

沈阳工业大学杨甜甜获国家专利权

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

龙图腾网获悉沈阳工业大学申请的专利一种铽掺杂NASICON型钠离子导体材料及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119241231B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411388818.5,技术领域涉及:C04B35/48;该发明授权一种铽掺杂NASICON型钠离子导体材料及其制备方法是由杨甜甜;黄海雄;樊江涛;米苡硕设计研发完成,并于2024-10-08向国家知识产权局提交的专利申请。

一种铽掺杂NASICON型钠离子导体材料及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明属于钠离子固体电解质制造领域,具体涉及一种铽掺杂NASICON型钠离子导体材料及其制备方法。该铽掺杂NASICON型钠离子导体材料的化学计量式为Na3+xZr2‑xTbxSi2PO12,其中,0<x≤0.3,其总离子电导率为3.07×10‑4Scm~1.02×10‑3Scm。与现有技术相比,本发明通过适量地用铽离子取代NASICON结构中的骨架离子(如Zr4+),增加了可迁移钠离子的浓度,从而提高离子电导率。本发明铽离子的掺杂有效地增大钠离子传输通道的尺寸,降低传输能量势垒,进而提高离子电导率。本发明通过铽离子掺杂的Na3.2Zr1.8Tb0.2Si2PO12电解质在室温下的离子电导率达到了1.02×10‑3Scm。本发明选用的原料为经济实惠的氧化物,这些原料不仅易于采购,而且价格低廉,有助于减少生产成本。

本发明授权一种铽掺杂NASICON型钠离子导体材料及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种铽掺杂NASICON型钠离子导体材料的制备方法,其特征在于:包括制备步骤如下: 1)原料粉体的处理:将Na2CO3粉体在900℃焙烧7小时,ZrO2粉体在900℃焙烧10小时,将SiO2粉体、NH4H2PO4粉体和Tb2O3粉体在120℃下干燥18小时; 2)称量和配料:依据Na3.2Zr1.8Tb0.2Si2PO12中的Na、Zr、Tb、Si、P化学计量比称量步骤1)中处理好的Na2CO32.7533g、ZrO23.6010g、SiO21.9512g、NH4H2PO41.8351g和Tb2O30.5940g原料粉体,其中称取15wt%过量的Na2CO3和NH4H2PO4以补偿高温下钠的挥发损失; 3)研磨与混合:在无尘环境中,将称量好的原料粉体和研磨助剂无水乙醇进行球磨,以1200rmin的速率进行球磨1小时,研磨混合均匀;将球磨后的混合粉体均匀装入坩埚,并确保坩埚盖密封; 4)粉体合成:将步骤3)的装载有混合粉体的坩埚放入预热的马弗炉内,以4℃min的速率升温至980℃,并在此温度区间内保持6小时,让坩埚随炉温自然冷却至200℃,取出合成粉体后,在研钵中研磨60min,以获得最终的前驱体粉体; 5)制粒、压片:称取0.8g上述步骤4)得到的前驱体粉体,向前驱体粉体中加入质量浓度5%的聚乙烯醇缩丁醛溶液,聚乙烯醇缩丁醛溶液的加入量为前驱体粉体质量的20%,在玛瑙研钵中研磨使前驱体粉体与聚乙烯醇缩丁醛溶液混合均匀,待完全干燥后将前驱体粉体装在模具内在30MPa压力下保持1min进行造粒,将造粒后的粉料在50MPa压力下保持1min得到直径为10mm厚度范围为2.0mm固态电解质成型片; 6)排胶:将步骤5)压好的固态电解质成型片放在50℃的烘箱中,预热后,取出固态电解质成型片并冷却至室温,然后竖立放置在敞口坩埚内置于马弗炉中,以1℃min的速率升温至500℃,并在500℃下保温2小时进行排胶处理,排胶完成后,关闭加热,让固态电解质成型片随炉内温度自然冷却至室温,得到样品片; 7)烧结:烧结前使用相同组分的母粉铺制约1mm厚于氧化铝坩埚内侧,压实母粉保证其在坩埚盖表面分布均匀,将步骤6)得到的样品片放置在母粉上,再用相同组分的母粉覆盖,最后将坩埚倒置在氧化铝坩埚盖上轻轻按压坩埚和坩埚盖,确保密封性,将密封好的坩埚立即放到马弗炉中先以5℃min的升温速率升至1000℃,再以3℃min的速率升温至1180℃,再在此温度下保温10h,冷却后,打开坩埚盖,取出致密晶态的陶瓷材料; 该铽掺杂NASICON型钠离子导体材料的总离子电导率为1.02×10-3Scm。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人沈阳工业大学,其通讯地址为:110870 辽宁省沈阳市沈阳经济技术开发区沈辽西路111号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。