上海华力集成电路制造有限公司王伟获国家专利权
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龙图腾网获悉上海华力集成电路制造有限公司申请的专利干法刻蚀机刻蚀腔室的顶部构造获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223296769U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422350519.4，技术领域涉及：H01J37/16；该实用新型干法刻蚀机刻蚀腔室的顶部构造是由王伟;朱怀昊设计研发完成，并于2024-09-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本干法刻蚀机刻蚀腔室的顶部构造在说明书摘要公布了：本申请提供一种干法刻蚀机刻蚀腔室的顶部构造，包括：隔板；上部腔体组合体，设置于隔板的中央开口处；冷却盘，设置于上部腔体组合体的底部；上部电极，设置于冷却盘的底部；上部腔体隔离环，设置于隔板与上部腔体组合体之间；冷却盘隔离环，设置于隔板与冷却盘、上部电极之间；L形挂钩，设置于隔板底部靠近隔板中央开口的边缘位置，L形挂钩的平台区前端朝向隔板中央开口的中心位置；以及上部遮蔽环，设置于L形挂钩与冷却盘隔离环之间。使上部遮蔽环与刻蚀机的上部腔体接触更为紧密，降低了颗粒物进入的风险，提升刻蚀过程的产品良率。
本实用新型干法刻蚀机刻蚀腔室的顶部构造在权利要求书中公布了：1.一种干法刻蚀机刻蚀腔室的顶部构造，其特征在于，所述干法刻蚀机刻蚀腔室的顶部构造包括： 隔板108； 上部腔体组合体107，设置于所述隔板108的中央开口处； 冷却盘106，设置于所述上部腔体组合体107的底部； 上部电极105，设置于所述冷却盘106的底部； 上部腔体隔离环103，设置于所述隔板108与所述上部腔体组合体107之间； 冷却盘隔离环102，设置于所述隔板108与所述冷却盘106、所述上部电极105之间； L形挂钩110，设置于所述隔板108底部靠近所述隔板108中央开口的边缘位置，所述L形挂钩110的平台区前端朝向所述隔板108中央开口的中心位置；以及 上部遮蔽环101，设置于所述L形挂钩110与所述冷却盘隔离环102之间。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人上海华力集成电路制造有限公司，其通讯地址为：201203 上海市浦东新区康桥东路298号1幢1060室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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