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龙图腾网获悉深圳市昇维旭技术有限公司申请的专利制程路径管控分析方法、系统、设备、存储介质及程序获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118398522B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410431795.5，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权制程路径管控分析方法、系统、设备、存储介质及程序是由周洋设计研发完成，并于2024-04-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本制程路径管控分析方法、系统、设备、存储介质及程序在说明书摘要公布了：本申请属于半导体技术领域，具体涉及制程路径管控分析方法、系统、设备、存储介质及程序，所述方法包括：获取一段时间内过站的每片晶圆的良率信息和制程信息；根据每个所述失效类型的测试机制，得到每个所述失效类型下的所有影响制程工艺，形成每个所述失效类型下的影响制程路径集合；计算所述影响制程路径集合中每条影响制程路径的路径分数；比较每条所述影响制程路径的所述路径分数与第一预设值，判定是否对所述影响制程路径进行管控；本申请可以快速、可靠地判定出可能会导致晶圆失效的制程路径，根据分析出的管控制程路径对线上的晶圆进行路径管控并进行判定结果的实际验证，在提高晶圆的生产良率的同时对晶圆的生产效率影响较小。

本发明授权制程路径管控分析方法、系统、设备、存储介质及程序在权利要求书中公布了：1.一种制程路径管控分析方法，其特征在于，所述方法包括： 获取一段时间内过站的每片晶圆的良率信息和制程信息；所述良率信息包括所述晶圆的良率是否合格，及良率不合格时所述晶圆的失效类型；所述制程信息包括所述晶圆完成的所有制程工艺的数量，每个制程工艺的名称，及完成每个制程工艺所使用的机台腔室的名称； 根据每个所述失效类型的测试机制，得到每个所述失效类型下的所有影响制程工艺，形成每个所述失效类型下的影响制程路径集合； 计算所述影响制程路径集合中每条影响制程路径的路径分数；其中，所述影响制程路径的所述路径分数与走所述影响制程路径的所述晶圆的良率的不合格率和所述一段时间内的所有所述晶圆的良率的不合格率正性相关； 比较每条所述影响制程路径的所述路径分数与第一预设值，判定是否对所述影响制程路径进行管控，具体过程为： 若所述路径分数大于或等于所述第一预设值，则判定对应所述影响制程路径为管控影响制程路径，需控制后续晶圆的制程路径避免走所述管控影响制程路径；若所述路径分数小于所述第一预设值，则判定对应所述影响制程路径为非管控影响制程路径，无需管控。

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