河南科技大学台玉萍获国家专利权
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龙图腾网获悉河南科技大学申请的专利一种摆线光学涡旋阵列掩模板的设计方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116047757B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310159714.6，技术领域涉及：G02B27/00；该发明授权一种摆线光学涡旋阵列掩模板的设计方法是由台玉萍;马鑫;李新忠设计研发完成，并于2023-02-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种摆线光学涡旋阵列掩模板的设计方法在说明书摘要公布了：一种摆线光学涡旋阵列掩模板的设计方法，步骤如下：在柱坐标得到理想贝塞尔光束，基于获得的贝塞尔光束，根据傅里叶变换的位移定理，并生成摆线光学涡旋阵列，得到其复透过率函数，基于该复透过率函数所描述的掩模板即为所述的摆线光学涡旋阵列掩模板。该发明利用计算全息原理，通过相位掩模技术，计算机编码得到具有功能性的光学涡旋阵列掩模板，在远场得到该阵列；由于具有局部动态调控和功能性的优点，因而在微操纵领域具有重要的应用价值。
本发明授权一种摆线光学涡旋阵列掩模板的设计方法在权利要求书中公布了：1.一种摆线光学涡旋阵列掩模板的设计方法，其特征在于：步骤如下： S1、在柱坐标下，理想贝塞尔光束表示为： 其中，Jl是l阶第一类贝塞尔函数；kr和kz分别是径向和光轴方向的波矢分量,与波数的关系为:k＝kr 2+kz 212＝2πλ，λ为形成贝塞尔光束的电磁辐射波长； S2、基于S1步骤获得的贝塞尔光束，根据傅里叶变换的位移定理，生成摆线光学涡旋阵列，其复透过率函数具体表达式为： 其中n′为锥透镜折射率，α为锥角，N为光学涡旋的总数，Ln,1和Ln,2分别为第n个光学涡旋的位置矩阵； S3、基于该复透过率函数所描述的掩模板即为所述的摆线光学涡旋阵列掩模板；所述的摆线光学涡旋阵列的参数方程表示为： 其中n为光学涡旋个数；D决定阵列的大小；a1和a2为阵列在水平方向和垂直方向的拉伸因子；b为摆线的曲率，当b前面符号为“+”时，上述参数方程为内摆线方程，c+1为阵列的尖峰数；当b前面符号为“-”时，上述参数方程为外摆线方程，c-1为阵列的尖峰数；其中参数Q＝D,a1,a2,b,c的实数取值决定摆线阵列结构。
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