有研亿金新材料有限公司;有研亿金新材料(山东)有限公司王兴权获国家专利权
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龙图腾网获悉有研亿金新材料有限公司;有研亿金新材料(山东)有限公司申请的专利一种高纯钴溅射靶材的制备方法、高纯钴溅射靶材及应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116288237B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211636972.0，技术领域涉及：C23C16/16；该发明授权一种高纯钴溅射靶材的制备方法、高纯钴溅射靶材及应用是由王兴权;李勇军;罗俊锋;何金江;徐国进;丁照崇;刘丹;朱孜毅设计研发完成，并于2022-12-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高纯钴溅射靶材的制备方法、高纯钴溅射靶材及应用在说明书摘要公布了：本发明涉及溅射靶材技术领域，具体涉及一种高纯钴溅射靶材的制备方法、高纯钴溅射靶材及应用。所述方法包括以下步骤：1基体预处理：选择靶材基体，对基体表面进行加工处理，控制基体表面粗糙度在0.1μm以下；2高纯钴沉积：采用化学气相沉积法将高纯钴沉积到基体上，沉积时基体的温度保持在200‑400℃，得到高纯钴溅射靶材。本发明采用气相沉淀法直接在基体表面沉积，一步法直接得到高纯度钴溅射靶材，反应过程均匀，产品一致性好；金属钴直接沉积到背板上，靶材内应力小，透磁均匀性高，有利于保证钴靶材产品质量，且生产成本低。得到的钴靶PTF比传统的冷热轧制加退火的工艺要高，同时组织均匀，具有更好的磁控溅射性能。
本发明授权一种高纯钴溅射靶材的制备方法、高纯钴溅射靶材及应用在权利要求书中公布了：1.一种高纯钴溅射靶材的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： （1）基体预处理：选择铜或铝合金材料作为靶材的基体，对基体表面进行加工处理，控制基体表面粗糙度在0.1μm以下，并采用离子束清洗基体表面； （2）高纯钴沉积：采用化学气相沉积法将高纯钴沉积到经过步骤（1）处理后的基体上，沉积时基体的温度保持在350-400℃，得到高纯钴溅射靶材，所述高纯钴是以（3,3-二甲基-1-丁炔）六羰基二钴原料，经过还原反应得到的，所述高纯钴的纯度≥99.9995%；具体操作为：将（3,3-二甲基-1-丁炔）六羰基二钴原料置于化学气相沉积设备中，以氢气为还原气体，以高纯氩气为保护载气，在真空度为90-120Pa的条件下，向基体表面进行高纯钴沉积，一步法制备得到高纯钴溅射靶材；制备得到的高纯钴溅射靶材为密排六方相，密排六方相的C轴0001垂直溅射面。
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