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龙图腾网获悉湖北久之洋红外系统股份有限公司申请的专利一种随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜设计及制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116056437B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211573651.0，技术领域涉及：H05K9/00；该发明授权一种随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜设计及制备方法是由孙义可;郝博;熊涛;徐旭;薛俊;何光宗;王航;张天行设计研发完成，并于2022-12-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜设计及制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜设计及制备方法，其在二维平面生成规则周期点阵；对规则周期点阵中的每个点做随机扰动，得到非规则随机点阵；将随机点阵分割为Delaunay三角网，划分为泰森多边形，得到随机结构金属网栅图案；检查随机结构金属网栅的结构参数是否达到预期标准，包括网孔随机程度、光学透过率、次级衍射分布和电磁屏蔽效能；若没有达到标准，则重复进行规则周期点阵的随机扰动和泰森多边形划分，直至达到预期标准；本发明设计并制备了一种随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜，易于设计和加工，还可根据光学系统对光学性能和电磁屏蔽效能的具体要求对随机结构金属网栅的结构参数进行针对性调整，可应用于不同的工况环境。

本发明授权一种随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜设计及制备方法在权利要求书中公布了：1.一种随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜设计方法，其特征在于包括以下步骤： （1）在二维平面生成规则周期点阵；所述规则周期点阵为二维正三角形点阵、二维四方点阵或二维密排六方点阵； （2）对规则周期点阵中的每个点做随机扰动，得到非规则随机点阵；所述随机扰动方法为：对生成的规则周期点阵进行随机赋值，采用以下公式： 其中，xi、yj为规则点阵中各点的初始坐标，rand（1）为随机生成0～1区间内任意数值的函数，（xrand_i，yrand_j）为随机赋值后的各点坐标，规则周期性点阵转变为非规则随机点阵； （3）将随机点阵分割为Delaunay三角网，将Delaunay三角网划分为泰森多边形，得到随机结构金属网栅图案； （4）检查随机结构金属网栅的结构参数是否达到预期标准，包括网孔随机程度、光学透过率、次级衍射分布和电磁屏蔽效能；若结构参数没有达到标准，则重复进行规则周期点阵的随机扰动和泰森多边形划分，直至结构参数达到预期标准。

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