深圳市华星光电半导体显示技术有限公司邓皓获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市华星光电半导体显示技术有限公司申请的专利气浮装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114153129B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111521306.8，技术领域涉及：G03F7/38；该发明授权气浮装置是由邓皓设计研发完成，并于2021-12-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本气浮装置在说明书摘要公布了：本发明涉及一种气浮装置，所述气浮装置通过在板体表面开设气流通道，控制气流通道的出气端的出气压力接近，即任意两个所述气流通道的出气端的出气压力的差值的绝对值为0～1Mpa，从而在板体上方形成一个由多个气柱组成的气浮式气垫，基体可放置于气浮式气垫上，通过气流通道的出气进行加热，进而实现对基体的均匀加热，避免因加热不均匀导致的基体上光阻膜层的膜厚差异。
本发明授权气浮装置在权利要求书中公布了：1.一种气浮装置，其特征在于，包括： 板体，表面开设有多个贯通所述板体的气流通道，所述气流通道的一端为进气端，所述气流通道的另一端为出气端；以及 至少一个气源，多个所述气流通道的所述进气端分别与所述气源的供气端连接，所述气源用于向所述气流通道供气，所述气流通道内的气流由所述出气端排出并形成气柱； 其中，任意两个所述气流通道的出气端的出气压力的差值的绝对值为0~1Mpa； 所述板体两端外侧分别设置有一支撑件； 所述支撑件的一端位于与所述气流通道的出气端相对应的所述板体表面所在平面的上方； 所述板体包括相对设置的第一表面和第二表面，所述第一表面与所述气流通道的所述进气端相对应，所述第二表面与所述气流通道的出气端相对应； 所述支撑件包括沿所述气流通道内气流流向设置的第一部分以及连接于所述第一部分一端的第二部分； 所述第二部分远离所述第一部分一端延伸至与所述第二表面上方，所述支撑件与多个所述气柱形成的气垫配合，以支撑基体。
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