上海微电子装备(集团)股份有限公司朱振南获国家专利权
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龙图腾网获悉上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利用于校准拼接物镜拼接误差的方法及系统以及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115561967B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110744358.5，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权用于校准拼接物镜拼接误差的方法及系统以及存储介质是由朱振南;宋涛;赵晓伟设计研发完成，并于2021-07-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于校准拼接物镜拼接误差的方法及系统以及存储介质在说明书摘要公布了：本发明提供了一种用于校准拼接物镜拼接误差的方法及系统以及存储介质，应用于半导体设备制造领域。在本发明实施例中，通过将掩膜上的第一标记组移动到第一行物镜的视场中，并将第一行标记组曝光在基板的预定位置上，然后移动基板，将曝光有第一标记组的所述预定位置移动到第二行物镜的视场中，并将掩膜上的第二标记组曝光在基板的预定位置，再根据第一标记组和第二标记组中的标记在基板上的实际位置，精确获取两行物镜中需要拼接的两个相邻物镜之间的拼接误差，并通过所述拼接误差对需要拼接的两个相邻物镜进行补偿校准，从而可提高物镜拼接误差的估计精度。
本发明授权用于校准拼接物镜拼接误差的方法及系统以及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种用于校准拼接物镜拼接误差的方法，其中，若干个物镜交错设置并分布于两行，其特征在于，所述方法包括： S1，将掩膜上的第一标记组移动到第一行物镜的视场中，并将所述第一标记组曝光在基板的预定位置上； S2，移动所述基板，以将曝光有所述第一标记组的所述预定位置移动到第二行物镜的视场中，并将掩膜上的第二标记组曝光在所述基板的所述预定位置； S3，根据所述第一标记组和所述第二标记组曝光在所述基板上的实际位置，获取两行物镜中需要拼接的两个相邻物镜之间的拼接误差； S4，根据所述拼接误差对所述需要拼接的两个相邻物镜进行补偿校准。
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