富士胶片株式会社有年阳平获国家专利权
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龙图腾网获悉富士胶片株式会社申请的专利转印膜、层叠体的制造方法及封端异氰酸酯化合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115668057B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180037909.2，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权转印膜、层叠体的制造方法及封端异氰酸酯化合物是由有年阳平;丰冈健太郎;儿玉邦彦设计研发完成，并于2021-05-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本转印膜、层叠体的制造方法及封端异氰酸酯化合物在说明书摘要公布了：本发明的课题在于提供一种能够抑制配线及电极的腐蚀的转印膜。并且，本发明的课题还在于提供一种使用上述转印膜而成的层叠体的制造方法。并且，本发明的课题还在于提供一种新型封端异氰酸酯化合物。本发明的转印膜具有临时支承体及配置于临时支承体上的感光性组合物层，感光性组合物层包含碱溶性树脂、聚合性化合物、聚合引发剂及NCO值为4.5mmolg以上的封端异氰酸酯化合物。
本发明授权转印膜、层叠体的制造方法及封端异氰酸酯化合物在权利要求书中公布了：1.一种转印膜，其具有临时支承体、配置于临时支承体上的感光性组合物层， 所述述感光性组合物层包含碱溶性树脂、聚合性化合物、聚合引发剂及NCO值为4.5mmolg以上的封端异氰酸酯化合物， 所述封端异氰酸酯化合物为由式Q表示的封端异氰酸酯化合物，或者，所述封端异氰酸酯化合物为由式QA表示的封端异氰酸酯化合物， B1-A1-L1-A2-B2式Q 式Q中，B1及B2分别独立地表示封端异氰酸酯基，A1及A2分别独立地表示单键或碳原子数1～10的亚烷基，L1表示二价连接基团， B1a-A1a-L1a-A2a-B2a式QA 式QA中，B1a及B2a分别独立地表示封端异氰酸酯基，A1a及A2a分别独立地表示二价连接基团，L1a表示环状的二价饱和烃基或二价芳香族烃基。
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