应用材料公司M·瓦埃兹-伊拉瓦尼获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利基于图像的表面变形计量获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113763316B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110545017.5，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权基于图像的表面变形计量是由M·瓦埃兹-伊拉瓦尼;赵国衡设计研发完成，并于2021-05-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于图像的表面变形计量在说明书摘要公布了：使用成像反射计测量来检测样本上的局部倾斜区域的方法包括：在不阻挡从样本反射的任何光的情况下获得第一图像，以及在孔径平面处阻挡从样本反射的一些光时获得第二图像。通过将第一图像中像素的第一反射强度值与第二图像中对应像素的第二反射强度值进行比较来检测局部倾斜区域。
本发明授权基于图像的表面变形计量在权利要求书中公布了：1.一种使用成像反射计检测样本上的局部倾斜区域的方法，所述方法包括： 使用输入射束照射所述样本上的测量区域； 执行第一成像反射测定法测量，其中执行所述第一成像反射测定法测量包括： 在成像传感器处接收从所述样本反射的第一成像射束，其中定位在所述成像反射计的孔径平面处的光圈被配置成使得所述第一成像射束穿过所述光圈的光瞳，并且所述光圈不阻挡从所述样本反射的所述第一成像射束的任何部分；以及 使用从所述样本反射并在所述成像传感器处被接收的所述第一成像射束获得所述测量区域的第一图像，所述第一图像包括第一多个像素； 执行第二成像反射测定法测量，其中执行所述第二成像反射测定法测量包括： 在所述成像传感器处接收从所述样本反射的第二成像射束，其中定位在所述成像反射计的所述孔径平面处的所述光圈被配置成使得所述第二成像射束穿过所述光圈的所述光瞳，并且所述光圈阻挡从所述样本反射的所述第二成像射束的一部分；以及 使用从所述样本反射并在所述成像传感器处被接收的所述第二成像射束获得所述测量区域的第二图像，所述第二图像包括第二多个像素； 检测所述测量区域内的所述局部倾斜区域，其中检测所述局部倾斜区域包括将所述第一图像中的像素的第一反射强度值与所述第二图像中的对应像素的第二反射强度值进行比较。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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