应用材料公司罗德尼·顺隆·利马获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利用于薄膜晶体管的富氮氮化硅膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114303239B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080061205.4，技术领域涉及：H01L23/29；该发明授权用于薄膜晶体管的富氮氮化硅膜是由罗德尼·顺隆·利马;金正倍;王家锐;崔羿;任东吉;崔寿永设计研发完成，并于2020-06-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于薄膜晶体管的富氮氮化硅膜在说明书摘要公布了：本公开内容的多个实施方式一般涉及富氮氮化硅和多个用以沉积富氮氮化硅的方法，和包含富氮氮化硅的多个晶体管和其他装置。在一个或多个实施方式中，一种钝化膜堆叠物包含氧化硅层，氧化硅层设置于工件上；和富氮氮化硅层，富氮氮化硅层设置于氧化硅层上。富氮氮化硅层具有约20原子百分比at％至约35at％的硅浓度、约40at％至约75at％的氮浓度和约10at％至约35at％的氢浓度。在一个或多个例子中，钝化膜堆叠物包含氧化硅层、富氮氮化硅层和第三层，第三层包含任何类型的氮化硅，例如是富氮氮化硅和或富氢氮化硅。
本发明授权用于薄膜晶体管的富氮氮化硅膜在权利要求书中公布了：1.一种钝化膜堆叠物，包括： 氧化硅层，设置于工件上；和 富氮氮化硅层，设置于所述氧化硅层上； 其中所述富氮氮化硅层具有20原子百分比at%至35at%的硅浓度、40at%至75at%的氮浓度和10at%至35at%的氢浓度。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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