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龙图腾网获悉新日泰克(北京)电子新材料有限公司申请的专利基于图像识别的光刻胶缺陷的检测方法、系统及云平台获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120259755B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510335458.0，技术领域涉及：G06V10/764；该发明授权基于图像识别的光刻胶缺陷的检测方法、系统及云平台是由张斌设计研发完成，并于2025-03-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于图像识别的光刻胶缺陷的检测方法、系统及云平台在说明书摘要公布了：本发明涉及图像处理技术领域，并具体公开了基于图像识别的光刻胶缺陷的检测方法、系统及云平台，其方法包括：S1：获取指定时间周期内基于光刻的多个目标图像的目标图像数据，获取所有目标图像的光刻胶图像数据；S2：确定多个类别光刻数据以及每个类别光刻数据的类别标签；S3：确定类别光刻数据中每个目标图像的第一缺陷拟合矩阵，并确定每个类别标签的第二缺陷拟合矩阵；S4：构建每个类别标签的缺陷检测模型；S5：获取待检测的实时光刻图像，确定缺陷数据。通过结合人工智能与计算机视觉技术，利用自动化缺陷拟合与分类方法，提升光刻过程中缺陷识别的精度和效率，提升缺陷检测的自动化程度，提高生产效率和产品质量。

本发明授权基于图像识别的光刻胶缺陷的检测方法、系统及云平台在权利要求书中公布了：1.基于图像识别的光刻胶缺陷的检测方法，其特征在于，包括： S1：获取指定时间周期内基于光刻的多个目标图像的目标图像数据，获取所有目标图像的光刻胶图像数据； S2：分析目标图像数据以及光刻胶图像数据，确定多个类别光刻数据以及每个类别光刻数据的类别标签； S3：分析类别光刻数据，确定类别光刻数据中每个目标图像的第一缺陷拟合矩阵，并确定每个类别标签的类别光刻数据的第二缺陷拟合矩阵； S4：基于每个类别标签的类别光刻数据以及第二缺陷拟合矩阵，构建每个类别标签的缺陷检测模型； S5：获取待检测的实时光刻图像，基于实时光刻图像以及所有缺陷检测模型确定实时光刻图像的缺陷数据； 其中，分析类别光刻数据，确定类别光刻数据中每个目标图像的第一缺陷拟合矩阵，并确定每个类别标签的类别光刻数据的第二缺陷拟合矩阵，包括： 基于每个目标图像的所有光刻胶图像的缺陷特征矩阵以及缺陷类型集合，确定类别光刻数据中每个目标图像的第一缺陷拟合矩阵； 基于每个类别光刻数据中所有目标图像的缺陷类型集合，确定每个类别光刻数据的类别缺陷集合； 基于每个类别光刻数据的类别缺陷集合以及每个类别光刻数据所有目标图像的第一缺陷拟合矩阵，确定每个类别标签的类别光刻数据的第二缺陷拟合矩阵。

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