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龙图腾网获悉西北工业大学申请的专利一种用于分子动力学模拟的间隙原子偏析晶界建模方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119626409B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411713725.5，技术领域涉及：G16C60/00；该发明授权一种用于分子动力学模拟的间隙原子偏析晶界建模方法是由沈将华;堵志钦设计研发完成，并于2024-11-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于分子动力学模拟的间隙原子偏析晶界建模方法在说明书摘要公布了：本发明涉及微纳米材料技术领域，具体涉及一种用于分子动力学模拟的间隙原子偏析晶界建模方法，包括：建立间隙被完全填充的单胞；构建初始晶界模型；确定间隙原子分布密度函数；将初始晶界模型分割为片段，确定各片段内的间隙原子的比例；删除多余的间隙原子，得到符合偏析分布要求的目标晶界模型；对目标晶界模型进行能量最小化，得到不同偏析程度的最终晶界模型。本发明通过引入间隙原子分布密度函数，能够灵活地控制间隙原子在晶界模型中的分布，从而使后续分子动力学模拟可以针对不同偏析情况下的间隙固溶体系，并实现了包含间隙溶质的任意晶界模型建模，从而使后续分子动力学模拟可以针对不同的晶界模型。

本发明授权一种用于分子动力学模拟的间隙原子偏析晶界建模方法在权利要求书中公布了：1.一种用于分子动力学模拟的间隙原子偏析晶界建模方法，其特征在于，包括： 根据溶剂的晶格常数，间隙溶质原子的偏好位置，以及晶界模型所需晶向，建立间隙被完全填充的单胞；其中，建立间隙被完全填充的单胞的步骤为：根据间隙溶质原子的偏好位置，获取间隙被完全填充时溶剂原子和溶质原子的对应比例；根据溶剂原子和溶质原子的对应比例，溶剂原子的晶格常数以及间隙溶质原子的偏好位置，计算单个溶剂原子对应溶质原子的偏移向量；根据当前晶向进行转轴操作得到晶界模型所需晶向，根据转轴前的晶向和晶界模型所需晶向计算晶体取向转轴矩阵；根据晶体取向转轴矩阵和单个溶剂原子对应溶质原子的偏移向量，计算转轴后单个溶剂原子对应溶质原子的转轴偏移向量；根据晶界模型所需晶向和溶剂原子的晶格常数，建立所需晶向下溶剂原子的单胞；根据转轴偏移向量和所需晶向下溶剂原子的单胞，确定单胞中插入的所有间隙原子的位置，并建立间隙被完全填充的单胞； 对单胞扩充得到超胞，并将超胞在所需界面对称得到初始晶界模型； 根据所需溶质原子的分布参数，确定间隙原子分布密度函数； 将初始晶界模型分割为片段，根据间隙原子分布密度函数确定各片段内的间隙原子的比例； 根据各片段内的间隙原子的比例删除多余的间隙原子，得到符合偏析分布要求的目标晶界模型； 对目标晶界模型进行能量最小化，得到最终晶界模型。

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