武汉工程大学李萍获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉工程大学申请的专利一种TiO2/Bi2S3/PCs复合光催化剂薄膜及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116851008B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310907646.7，技术领域涉及：B01J27/04；该发明授权一种TiO2/Bi2S3/PCs复合光催化剂薄膜及其制备方法和应用是由李萍;刘锐珍;姜怀远;吕仁亮;古双喜;徐彩丽;尹建飞;徐正瑞;陈晓雨设计研发完成，并于2023-07-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种TiO2/Bi2S3/PCs复合光催化剂薄膜及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种TiO2Bi2S3PCs复合光催化薄膜及其制备方法和应用。该复合光催化薄膜依次包括光子晶体层和TiO2Bi2S3复合材料层；其中：TiO2Bi2S3复合材料层中，TiO2和Bi2S3的质量比为0.2～1.2:1；TiO2为锐钛矿与金红石相混晶；TiO2颗粒均匀地布设在微米花状的Bi2S3表面；光子晶体层为SiO2微球制备得到，SiO2微球粒径为200～250nm。该复合光催化剂膜光利用率高，用于降解抗生素时，降解率可高达90％以上，同时具有良好的光催化稳定性，可多次循环使用，且回收方便，对不同类型的抗生素废水均有较佳降解效果，适用性广，具有广泛的应用前景。
本发明授权一种TiO2/Bi2S3/PCs复合光催化剂薄膜及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种TiO2Bi2S3PCs复合光催化剂薄膜，其特征在于，依次包括光子晶体层和TiO2Bi2S3复合材料层；其中： TiO2Bi2S3复合材料层中，TiO2和Bi2S3的质量比为0.2~1.2:1；TiO2为锐钛矿与金红石相混晶；TiO2颗粒均匀地布设在微米花状的Bi2S3表面； 光子晶体层为SiO2微球制备得到，SiO2微球粒径为200~250nm。
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