北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司陈卓获国家专利权
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龙图腾网获悉北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司申请的专利量子点混合配体、量子点-配体体系及量子点-配体材料获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116426269B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111662786.X，技术领域涉及：C09K11/02；该发明授权量子点混合配体、量子点-配体体系及量子点-配体材料是由陈卓;张迪;袁旭;李卓设计研发完成，并于2021-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本量子点混合配体、量子点-配体体系及量子点-配体材料在说明书摘要公布了：本公开提供了一种量子点混合配体、量子点‑配体体系及量子点‑配体材料，属于显示技术领域。该量子点混合配体包括第一配体，包括第一配位基团、第一连接基团和酸性基团，所述第一连接基团连接于所述第一配位基团和所述酸性基团之间；第二配体，第二配位基团、第二连接基团和光敏基团，所述第二连接基团连接于所述第二配位基团和所述光敏基团之间；其中，所述第一配位基团和所述第二配位基团用于与量子点本体形成配位键；所述酸性基团能够与碱性溶液发生酸碱反应，并使第一配体离子化；所述光敏基团选自包含碳碳双键，或含O或S的饱和3‑5元杂环基团的结构，该量子点混合配体为量子点膜层能采用光刻工艺形成提供的基础。
本发明授权量子点混合配体、量子点-配体体系及量子点-配体材料在权利要求书中公布了：1.一种量子点混合配体，其特征在于，包括： 第一配体，包括第一配位基团、第一连接基团和酸性基团，所述第一连接基团连接于所述第一配位基团和所述酸性基团之间； 第二配体，包括第二配位基团、第二连接基团和光敏基团，所述第二连接基团连接于所述第二配位基团和所述光敏基团之间； 其中，所述第一配位基团和所述第二配位基团用于与量子点本体形成配位键；所述酸性基团能够与碱性溶液发生酸碱反应，并使所述第一配体离子化； 其中，所述第一配体，具有如式I所示的结构； 其中，R1为第一配位基团，选自巯基或双巯基； R2为酸性基团，选自羧酸基或磺酸基； n1选自0-5的任意整数； 其中，所述第二配体选自如下结构所组成的组： 其中，R4选自羧酸基、巯基或双巯基； n2选自2-8的任意整数； n3选自2-8的任意整数。
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