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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;北京京东方传感技术有限公司申请的专利指纹验证方法、装置、电子设备、存储介质及程序获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114332959B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111614924.7，技术领域涉及：G06V40/12；该发明授权指纹验证方法、装置、电子设备、存储介质及程序是由席聪聪;李成;代翼;李泽飞;王奎元;丰亚洁;耿越;祁朝阳;李重寰;于策设计研发完成，并于2021-12-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本指纹验证方法、装置、电子设备、存储介质及程序在说明书摘要公布了：本公开提供的指纹验证方法、装置、电子设备、存储介质及程序，属于计算机技术领域。所述方法包括：通过光学指纹采集组件对目标对象的指纹进行短曝光拍摄，获取短曝光指纹图像；在短曝光指纹图像与短曝光临时模板图像比对通过的情况下，确认目标对象的指纹验证通过，并通过短曝光指纹图像更新短曝光临时模板图像；在短曝光指纹图像与短曝光临时模板图像比对未通过的情况下，通过光学指纹组件对目标对象的指纹进行长曝光拍摄，获取长曝光指纹图像；在长曝光指纹图像与长曝光临时模板图像比对通过的情况下，确认目标对象的指纹验证通过，并通过长曝光指纹图像更新长曝光临时模板图像。本方案在保证指纹验证的准确率的同时，提高了指纹验证的效率。

本发明授权指纹验证方法、装置、电子设备、存储介质及程序在权利要求书中公布了：1.一种光学指纹验证方法，其特征在于，所述方法包括： 通过光学指纹采集组件对目标对象的指纹进行短曝光拍摄，获取短曝光指纹图像； 在所述短曝光指纹图像与所述短曝光临时模板图像比对通过的情况下，确认所述目标对象的指纹验证通过，并通过所述短曝光指纹图像更新所述短曝光临时模板图像； 在所述短曝光指纹图像与所述短曝光临时模板图像比对未通过的情况下，通过所述光学指纹组件对所述目标对象的指纹进行长曝光拍摄，获取长曝光指纹图像； 在所述长曝光指纹图像与所述长曝光临时模板图像比对通过的情况下，确认所述目标对象的指纹验证通过，并通过所述长曝光指纹图像更新所述长曝光临时模板图像； 在所述通过所述光学指纹组件对所述目标对象的指纹进行长曝光拍摄，获取长曝光指纹图像之后，所述方法还包括： 在所述长曝光指纹图像与所述长曝光临时模板图像比对未通过的情况下，将所述长曝光指纹图像与长曝光主模板图像进行比对； 在所述将所述长曝光指纹图像与长曝光主模板图像进行比对之后，所述方法还包括： 在所述长曝光指纹图像与所述长曝光主模板图像比对未通过的情况下，将所述长曝光指纹图像与长曝光自学习模板图像进行比对。

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