京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司杨富强获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请的专利显示基板及其制作方法、显示装置和掩膜版获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115152026B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180000099.3，技术领域涉及：H10K59/12；该发明授权显示基板及其制作方法、显示装置和掩膜版是由杨富强;何帆;仝可蒙;樊聪设计研发完成，并于2021-01-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示基板及其制作方法、显示装置和掩膜版在说明书摘要公布了：一种显示基板，包括衬底以及依次设置于所述衬底一侧的电路结构层、发光器件层、封装层。所述封装层被配置为将所述电路结构层和所述发光器件层封装于所述衬底上，且所述封装层中的部分区域向靠近所述衬底一侧凹陷以形成至少一个凹坑。所述显示基板还包括填充层，所述填充层填充于至少一个凹坑内。
本发明授权显示基板及其制作方法、显示装置和掩膜版在权利要求书中公布了：1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板具有显示区和位于所述显示区至少一侧的周边区；所述显示基板包括： 衬底； 依次设置于所述衬底一侧的电路结构层、发光器件层和封装层， 所述电路结构层包括： 第一金属层，包括位于所述周边区的至少两条第一金属线，所述至少两条第一金属线分别沿平行于所述显示区与所述周边区之间的分界面的方向延伸，且所述至少两条第一金属线沿远离所述显示区的方向依次间隔设置； 第一绝缘层，包括位于所述周边区的至少两个第一绝缘部分，每个所述第一绝缘部分覆盖一条所述第一金属线，相邻的两个所述第一绝缘部分之间具有第一子开口； 所述封装层被配置为将所述电路结构层和所述发光器件层封装于所述衬底上，且所述封装层中的部分区域向靠近所述衬底一侧凹陷以形成至少一个凹坑； 填充层，填充于至少一个凹坑内，其中，所述封装层中对应所述第一子开口的区域向靠近所述衬底一侧凹陷以形成所述至少一个凹坑中的第一凹坑，所述填充层包括填充至所述第一凹坑中的第一填充部。
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